金纳米薄膜的制备及吸收光谱分析

金纳米薄膜的制备及吸收光谱分析

论文摘要

本文采用电化学方法,在不同溶液浓度、PH 值、电沉积电压、电沉积时间等条件下,制备了不同的金纳米薄膜,并在室温下测得其紫外-可见吸收光谱,讨论了溶液浓度、PH 值、电沉积电压、电沉积时间等条件对金纳米薄膜的影响,从而对光的吸收度的影响。实验发现,当溶液浓度为1mol/L 时,得到金纳米薄膜的结构最复杂,表面粗糙度最高,对光的吸收度最大;当向溶液中加入10 克硫酸(500ml 溶液)时,得到金纳米薄膜的结构最复杂,表面粗糙度最高,对光的吸收度最大;当电沉积电压为0.2 伏时,得到金纳米薄膜的结构最复杂,表面粗糙度最高,对光的吸收度最大;随着电沉积时间的增长,得到金纳米薄膜的结构越复杂,表面粗糙度越高,对光的吸收度越大。

论文目录

  • 第一章 引言
  • 1.1 国内外研究动态
  • 1.2 本论文选题的背景和意义
  • 1.3 本论文所研究的内容
  • 第二章 金属纳米薄膜的制备原理
  • 2.1 物理气相沉积法
  • 2.2 化学气相沉积法
  • 2.3 金属电沉积过程的基本原理
  • 第三章 吸收光谱原理
  • 3.1 吸收光谱的来源
  • 3.2 吸收强度
  • 3.3 吸收光谱的表示法
  • 3.4 重叠的吸收带
  • 3.5 测定吸收光谱的注意事项
  • 第四章 金纳米薄膜的制备及吸收光谱分析
  • 4.1 实验设备及材料
  • 4.2 样品制备的实验步骤
  • 4.3 结果与讨论
  • 4.4 结论
  • 参考文献
  • 摘要
  • Abstract
  • 致谢
  • 相关论文文献

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