论文摘要
第一部分LASEK手术后Haze发生的相关因素分析目的:探讨准分子激光上皮下角膜磨镶(LASEK)手术后角膜上皮下雾状混浊(Haze)发生的相关因素。方法:回顾分析我中心202只眼LASEK术前的有关因素(眼别、性别、年龄、眼压值、等效球镜度数、中央角膜厚度、隐形眼镜配戴史),检查结果量化后进行Logistic回归分析。结果:随访时间半年到1年(平均0.9年),随访结果显示6月时1级以上(包括1级)Haze发生率为10%,等效球镜度数与Haze发生相关。屈光度数越高,发生率越高。眼别、性别、年龄、眼压值、中央角膜厚度、是否有隐形眼镜配戴1年以上等因素均未显示与Haze发生相关。结论:屈光度数高近视者易形成Haze。第二部分丝裂霉素C在LASEK术中应用的临床研究目的:探讨丝裂霉素C(MMC)在准分子激光上皮下角膜磨镶术(LASEK)中应用的作用。方法:LASEK150例近视患者左、右眼随机分为两组,其中MMC组150眼术中将浸有0.02% MMC的海绵片覆盖于角膜切削区1分钟;对照组150眼术中将浸有BBS液的海绵置覆盖于切削区基质床上1分钟。术后定期随访观察两组角膜Haze形成、角膜上皮愈合时间、视力恢复情况及屈光度。结果:术后3月、6月MMC组Haze轻于对照组(P<0.05),术后6月MMC组术后最佳矫正视力优于对照组(P<0.05)。两组眼部刺激症状、角膜上皮愈合时间及屈光度差异均无显著性(P>0.05)。结论:LASEK术中应用0.02% MMC可减轻Haze的形成,无毒副作用产生。
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标签：准分子激光论文; 角膜上皮下角膜磨镶术论文; 角膜上皮下雾状混浊论文; 丝裂霉素论文;