本文主要研究内容
作者毛翰,董蕙,王振全,郭进（2019）在《pH值、离子强度和粒径对氧化石墨烯稳定性的影响》一文中研究指出：氧化石墨烯(Graphene oxide, GO)表面具有丰富的官能团和较高的比表面积,能够作为膜材料应用于膜分离技术.然而,目前合成GO的技术很难保证其横向尺寸的均一性.此外,GO在自然水环境中分散性的稳定性受环境中pH值和离子强度的影响.本文研究了横向尺寸、pH值和离子强度对GO表面双电层电荷或结构组装所需的相互作用力的影响.从原位原子力显微镜(Atomic force microscope, AFM)获得的力-距离曲线(F-D)可以看出,溶液条件对DLVO力的作用.GO的双电层静电斥力随着pH值的升高而增大,这可能是由于表面官能团的电离作用增强所致.但随着离子强度的增加,双电层斥力减小,得到的数据与DLVO理论一致.通过Zeta电位和开尔文探针力显微镜(Kelvin probe force microscopy, KPFM)测量,确定了氧化石墨烯片层表面电荷的不均匀性.
Abstract
yang hua dan mo xi (Graphene oxide, GO)biao mian ju you feng fu de guan neng tuan he jiao gao de bi biao mian ji ,neng gou zuo wei mo cai liao ying yong yu mo fen li ji shu .ran er ,mu qian ge cheng GOde ji shu hen nan bao zheng ji heng xiang che cun de jun yi xing .ci wai ,GOzai zi ran shui huan jing zhong fen san xing de wen ding xing shou huan jing zhong pHzhi he li zi jiang du de ying xiang .ben wen yan jiu le heng xiang che cun 、pHzhi he li zi jiang du dui GObiao mian shuang dian ceng dian he huo jie gou zu zhuang suo xu de xiang hu zuo yong li de ying xiang .cong yuan wei yuan zi li xian wei jing (Atomic force microscope, AFM)huo de de li -ju li qu xian (F-D)ke yi kan chu ,rong ye tiao jian dui DLVOli de zuo yong .GOde shuang dian ceng jing dian chi li sui zhao pHzhi de sheng gao er zeng da ,zhe ke neng shi you yu biao mian guan neng tuan de dian li zuo yong zeng jiang suo zhi .dan sui zhao li zi jiang du de zeng jia ,shuang dian ceng chi li jian xiao ,de dao de shu ju yu DLVOli lun yi zhi .tong guo Zetadian wei he kai er wen tan zhen li xian wei jing (Kelvin probe force microscopy, KPFM)ce liang ,que ding le yang hua dan mo xi pian ceng biao mian dian he de bu jun yun xing .
论文参考文献
论文详细介绍
论文作者分别是来自环境化学的毛翰,董蕙,王振全,郭进，发表于刊物环境化学2019年10期论文，是一篇关于氧化石墨烯论文,力曲线论文,双电层论文,环境化学2019年10期论文的文章。本文可供学术参考使用，各位学者可以免费参考阅读下载，文章观点不代表本站观点，资料来自环境化学2019年10期论文网站，若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权，请联系我们删除。
标签：氧化石墨烯论文; 力曲线论文; 双电层论文; 环境化学2019年10期论文;