金/镍催化下碳纳米管生长与场发射特性

金/镍催化下碳纳米管生长与场发射特性

论文摘要

本论文选用一种新型催化剂—金镍复合膜,以氢气和甲烷为混合气体,利用等离子体增强的化学气相沉积方法制备出定向生长的碳纳米管阵列。通过改变各种生长参数对碳纳米管的生长规律进行研究,并对其在金镍复合膜上的生长机制进行了深入探索。在优化的实验参数下,制备出一种硅尖和碳纳米管的混合物,混和物中的碳纳米管具有高长径比、清洁的管壁和良好的定向性。对不同条件下制备的碳纳米管进行场发射性能的测试,其中硅尖和碳纳米管的混合阵列表现出优异的场发射性能。从多种角度讨论了影响场发射性能的原因。对碳纳米管进行了真空退火和氢气和氮气下的退火处理,其中600℃的真空退火和氢气退火对碳纳米管的场发射性能具有较明显的提升作用。最后,制备了掺氮的碳纳米管并对其生长特性和场发射特性进行了讨论。

论文目录

  • 第一章 绪论
  • 1.1 一维纳米材料概述
  • 1.2 金在一维纳米材料制备中的应用
  • 1.3 碳纳米管的场致发射研究现状及应用
  • 1.4 论文的选题及主要研究内容
  • 第二章 金镍复合膜上定向碳纳米管的制备
  • 2.1 CVD 法制备碳纳米管和碳纳米管的定向生长机理
  • 2.2 实验设备及实验过程
  • 2.3 碳纳米管的表征
  • 2.4 金镍复合膜上定向碳纳米管的制备
  • 2.5 主要生长参数对碳纳米管的生长特性的影响
  • 2.6 本章小结
  • 第三章 催化剂对碳纳米管生长特性的影响
  • 3.1 金与镍的性质综述
  • 3.2 金镍复合膜的制备及金镍合金的形成
  • 3.3 金镍复合膜上碳纳米管定向生长的机理讨论
  • 3.4 不同厚度比的金镍复合膜上碳纳米管生长特性的研究
  • 3.5 本章小结
  • 第四章 碳纳米管场发射性能的研究
  • 4.1 碳纳米管的场发射性能与研究概述
  • 4.2 场发射理论基础
  • 4.3 场致发射测试装置简介
  • 4.4 不同实验条件下碳纳米管的场发射性能
  • 4.5 退火对碳纳米管场发射性能的影响
  • 4.6 影响碳纳米管场发射性能的因素
  • 4.7 本章小结
  • 第五章 掺氮碳纳米管的生长及场发射特性
  • 5.1 掺氮碳纳米管的研究
  • 5.2 掺氮碳纳米管的制备及表征
  • 5.3 掺氮对碳纳米管生长特性的影响
  • 5.4 掺氮对碳纳米管场发射特性的影响
  • 5.5 本章小结
  • 第六章 全文总结
  • 参考文献
  • 论文发表情况
  • 摘要
  • Abstract
  • 致谢
  • 相关论文文献

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