金属栅/高K栅介质层/Ge MOS电容研究

金属栅/高K栅介质层/Ge MOS电容研究

论文摘要

随着MOS器件尺寸的缩小,进一步提高器件工作性能面临诸多挑战。许多新技术被开发出来用以克服这些挑战,例如为降低栅极漏电流需用高κ栅介质代替传统的Si02栅介质;为解决引入高κ栅介质后导致的多晶硅费米能级钉扎、沟道载流子迁移率降低等问题需用金属栅代替传统的多晶硅栅;用Ge、GaAs等代替传统的Si衬底提高沟道载流子的迁移率;采用多栅结构增强栅极对沟道的控制能力等等。本文在Ge衬底上利用金属栅/高K技术,对分别采用TiN、Al、TiN/Al/TiN栅极的HfO2/GeON/p-Ge电容结构进行了研究,得到以下结果:(1)建立模型,对测量获得的C-V/G-V曲线及电导法表征界面态的结果进行寄生效应修正。MOS电容测量时,连线和样品衬底上的寄生电阻、探针或探针台与样品接触造成的寄生电容等因素,导致直接测量的结果往往不能反映样品本身的真实信息。本论文建立了修正寄生电阻、电容效应的模型,并把这种修正方法应用到电导法对界面态的表征中。(2)研究了退火条件对TiN/HfO2/GeON/p-Ge电容的影响。研究发现采用超薄GeON界面层并结合400℃/3min N2氛围退火是一种有效的钝化p-Ge界面态并降低栅介质中陷阱缺陷的方法。退火过程中,Hf02栅介质中多余间隙氧原子向GeON层中的扩散有利于钝化Ge衬底界面态并减小GeON中的氧空位缺陷,从而获得较理想的C-V曲线簇和C-V回滞特性。(3)探索了不同金属栅材料对Hf02/GeON/p-Ge电容的功函数调制效果。研究发现低功函数的活泼金属Al不适合直接用在HfO2/GeON/p-Ge结构上来调制栅极的功函数:350℃/10min N2氛围的退火后,相对于TiN电极,Al电极样品的界面态钝化效果较差且栅介质缺陷情况恶化。SIMS测试显示,Al原子在退火后向栅介质方向扩散,同时衬底中Ge原子大量扩散进入栅介质层和Al电极,而TiN电极样品在同样条件退火后衬底Ge原子向栅介质中的扩散量较小。研究指出适当条件退火后TiN/Al/TiN电极相对于TiN电极,在不影响HfO2/GeON/p-Ge电容特性的同时可有效降低栅极功函数:400℃/3min N2氛围退火后,TiN/Al/TiN电极相对TiN电极可降低栅极功函数约0.18eV,但更长时间的退火处理并不能更有效的继续降低栅极功函数。

论文目录

  • 摘要
  • Abstract
  • 第一章 绪论
  • 1.1 MOSFET的基本工作原理
  • 1.2 现代MOSFET面临的问题及解决方案
  • 1.2.1 高κ栅介质的相关概念
  • 1.2.2 对高κ栅介质的要求
  • 1.2.3 高κ栅介质的常用制备方法
  • 1.2.4 高κ栅介质面临的主要问题
  • 1.2.5 金属栅(MG)的引入
  • 1.2.6 金属栅的有效功函数和热稳定性
  • 1.2.7 金属栅有效功函数的调制
  • 1.2.8 新型衬底材料
  • 1.2.9 新型器件结构
  • 1.3 论文中具体涉及到的研究对象和要解决的问题
  • 1.3.1 基于Ge衬底的MG/HK MOS电容结构
  • 1.3.2 要解决的主要问题
  • 1.4 论文内容安排
  • 第二章 测试、表征方法介绍和寄生效应的修正
  • 2.1 X射线衍射(XRD)
  • 2.2 透射电子显微术(TEM)
  • 2.3 二次离子质谱(SIMS)
  • 2.4 根据寄生电阻效应对C-V/G-V曲线的修正
  • 2.5 根据寄生电阻和电容效应对C-V/G-V曲线的修正
  • 2.6 电导法表征界面态
  • 2.6.1 电导法表征界面态的原理
  • 2.6.2 根据寄生电阻效应对电导法测量结果的修正
  • 2.6.3 根据寄生电阻和电容效应对电导法测量结果的修正
  • 2.7 本章小结
  • 2/GeON/p-Ge电容特性研究'>第三章 TiN/HfO2/GeON/p-Ge电容特性研究
  • 3.1 样品制作及测试
  • 3.2 结果与讨论
  • 3.2.1 XRD和TEM测试
  • 3.2.2 退火前后的C-V曲线
  • 3.2.3 退火前后样品的C-V回滞及对其来源的讨论
  • 3.2.4 对栅介质陷阱的表征
  • 3.2.5 对界面态的电导法表征
  • 3.3 本章小结
  • 2/GeON/p-Ge电容栅极功函数调制研究'>第四章 HfO2/GeON/p-Ge电容栅极功函数调制研究
  • 2/GeON/p-Ge结构的不同影响'>4.1 Al和TiN栅极在退火后对HfO2/GeON/p-Ge结构的不同影响
  • 4.1.1 样品制作与测试
  • 4.1.2 结果与讨论
  • 2/GeON/p-Ge电容栅极功函数的调制'>4.2 TiN/Al/TiN对HfO2/GeON/p-Ge电容栅极功函数的调制
  • 4.2.1 样品制作与测试
  • 4.2.2 结果与讨论
  • 4.3 本章小结
  • 第五章 总结与展望
  • 参考文献
  • 致谢
  • 硕士期间研究成果
  • 相关论文文献

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