本文主要研究内容
作者闫小星,常意娟,潘萍,徐国跃（2019）在《纳米氧化硅浓缩浆改性铝/UV固化红外低发射率涂层的性能》一文中研究指出：为改善UV固化涂层的性能,通过正交试验研究了纳米氧化硅浓缩浆、铝、紫外光固化时间对UV固化涂层光泽度及红外发射率的影响。结果表明:紫外光固化时间是影响涂层性能的关键因素,紫外光固化时间从30 s提高到360 s时,UV固化涂层的光泽度从11.1%缓慢下降到9.0%,L’值从78.6降低到75.0;当紫外光固化时间为180 s时,UV固化涂层具有最低的红外发射率为0.106;紫外光固化时间为30～360 s时涂层硬度为6 H;紫外光固化时间为30～120 s时涂层粗糙度比较高;紫外光固化时间大于300 s时涂层附着力为0级;当紫外光固化时间分别为300 s和360 s时,涂层的抗冲击性最好,为500 N/cm。当紫外光固化时间为180 s时,铝/UV固化涂层的整体性能最优。
Abstract
wei gai shan UVgu hua tu ceng de xing neng ,tong guo zheng jiao shi yan yan jiu le na mi yang hua gui nong su jiang 、lv 、zi wai guang gu hua shi jian dui UVgu hua tu ceng guang ze du ji gong wai fa she lv de ying xiang 。jie guo biao ming :zi wai guang gu hua shi jian shi ying xiang tu ceng xing neng de guan jian yin su ,zi wai guang gu hua shi jian cong 30 sdi gao dao 360 sshi ,UVgu hua tu ceng de guang ze du cong 11.1%huan man xia jiang dao 9.0%,L’zhi cong 78.6jiang di dao 75.0;dang zi wai guang gu hua shi jian wei 180 sshi ,UVgu hua tu ceng ju you zui di de gong wai fa she lv wei 0.106;zi wai guang gu hua shi jian wei 30～360 sshi tu ceng ying du wei 6 H;zi wai guang gu hua shi jian wei 30～120 sshi tu ceng cu cao du bi jiao gao ;zi wai guang gu hua shi jian da yu 300 sshi tu ceng fu zhao li wei 0ji ;dang zi wai guang gu hua shi jian fen bie wei 300 she 360 sshi ,tu ceng de kang chong ji xing zui hao ,wei 500 N/cm。dang zi wai guang gu hua shi jian wei 180 sshi ,lv /UVgu hua tu ceng de zheng ti xing neng zui you 。
论文参考文献
论文详细介绍
论文作者分别是来自材料保护的闫小星,常意娟,潘萍,徐国跃，发表于刊物材料保护2019年02期论文，是一篇关于紫外光固化时间论文,紫外光固化涂层论文,红外发射率论文,涂层性能论文,材料保护2019年02期论文的文章。本文可供学术参考使用，各位学者可以免费参考阅读下载，文章观点不代表本站观点，资料来自材料保护2019年02期论文网站，若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权，请联系我们删除。
标签：紫外光固化时间论文; 紫外光固化涂层论文; 红外发射率论文; 涂层性能论文; 材料保护2019年02期论文;