论文摘要
由于纳米尺度的一维材料在基础科学研究和潜在的技术应用方面极其重要而引起人们的广泛关注。准一维纳米材料,主要包括纳米线/棒、纳米管、纳米带、纳米针、纳米同轴电缆、异质结和超晶格纳米线等。在这些材料中,氧化物一维纳米材料是人们重点的研究对象。尽管一维氧化物纳米材料的研究已经取得了相当大的进步,但如何在所需形貌、成分、结构和性质的制备上实现可控仍然是一个很大的挑战。本论文的第一部分内容就是如何用简单的热蒸发方法制备出GeO2纳米线阵列。后面两部分分别是三元化合物In2Ge2O7纳米带和链状In2Ge2O7芯/非晶GeO2壳纳米电缆的制备、表征和发光性能研究。主要的研究工作及结果如下:1.GeO2纳米线阵列的合成、表征、生长机制和发光特性的研究我们用传统的热蒸发方法,以Si(111)作为衬底,制得了GeO2纳米线阵列。分析表明GeO2纳米线阵列以自催化VLS机制生长。用扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)、能量弥散X射线衍射仪(EDS)和光致发光光谱(PL)等测试手段对制得产物的形貌、微观结构和光学性能进行了研究。GeO2纳米线的直径和长度分别为100nm和几微米左右,纳米线端部的球形颗粒的直径大概为几百纳米。GeO2纳米线对电子束的辐射非常敏感。当有能量比较大的电子束打在GeO2纳米线上时,GeO2纳米线发生了单晶到非晶的转变。室温下的GeO2纳米线阵列的光致发光光谱显示出一个峰值为411nm的紫光峰和两个峰值分别为448nm和471nm的蓝光峰。2.三元化合物In2Ge2O7纳米带的合成和光致发光性能在没有使用催化剂的情况下,用简单的热蒸发方法成功地合成了大量的In2Ge2O7纳米带。In2Ge2O7纳米带的生长过程是基于气—固生长机制。用扫面电镜(SEM)、透射电镜(TEM)、能量弥散X射线衍射仪(EDS)和光致发光光谱(PL)等测试手段对制得产物的形貌、微观结构和光学性能进行了研究。In2Ge2O7具有层状的钪钇石型(Sc2Si2O7)结构。In2Ge2O7纳米带生长方向是[210],宽度、厚度和长度分别在300-500nm、50-70nm和几十到几百微米左右。在室温光致发光光谱中可以观察到一个强而且很宽的在410nm处的发光峰。3.链球状In2Ge2O7芯/非晶GeO2壳纳米电缆的合成和发光特性通过简单的热蒸发方法成功地合成了新奇的链球状In2Ge2O7芯/非晶GeO2壳纳米电缆。纳米电缆的生长过程是基于气—固生长机制。用扫面电镜(SEM)、透射电镜(TEM)、能量弥散X射线衍射仪(EDS)和光致发光光谱(PL)等测试手段对制得产物的形貌、微观结构和光学性能进行了研究。研究表明链球状的纳米电缆的芯部是单晶In2Ge2O7纳米线,直径大概是30nm,壳层是非晶GeO2的链状结构。在室温测得的PL谱经过拟合可以得到四个发光峰,分别是401 nm、448.5 nm,、466.5 nm和491 nm。
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