本文主要研究内容
作者邹延珂,周俊,倪径,郭韦,徐德超（2019）在《缓冲层厚度对NiFe/FeMn薄膜静态磁性能的影响》一文中研究指出：采用直流磁控溅射法沉积了Ta/NiFe/FeMn/Ta薄膜系列样品。通过振动样品磁强计(VSM)、X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)等检测手段研究了Ta缓冲层厚度对Ni Fe/FeMn薄膜交换偏置场、矫顽力的影响。VSM测试结果表明,交换偏置场He随Ta缓冲层厚度增加而增大,矫顽力Hc随随Ta缓冲层厚度增加有减小的趋势。通过AFM检测了不同厚度Ta缓冲层上生长的Ni Fe层表面均方根粗糙度,发现其随Ta缓冲层厚度的增加而减小,表明NiFe/FeMn界面变得更加均匀,这导致了较大的He和较小的Hc。另外,通过XRD分析,发现随着Ta层厚度的增加Ta由非晶态转化为结晶状态并先后显示出Ta(300)、Ta(200)取向,表明随着Ta缓冲层厚度增加,其织构转变也可能会导致静态磁性的变化。
Abstract
cai yong zhi liu ci kong jian she fa chen ji le Ta/NiFe/FeMn/Tabao mo ji lie yang pin 。tong guo zhen dong yang pin ci jiang ji (VSM)、Xshe xian yan she (XRD)、yuan zi li xian wei jing (AFM)deng jian ce shou duan yan jiu le Tahuan chong ceng hou du dui Ni Fe/FeMnbao mo jiao huan pian zhi chang 、jiao wan li de ying xiang 。VSMce shi jie guo biao ming ,jiao huan pian zhi chang Hesui Tahuan chong ceng hou du zeng jia er zeng da ,jiao wan li Hcsui sui Tahuan chong ceng hou du zeng jia you jian xiao de qu shi 。tong guo AFMjian ce le bu tong hou du Tahuan chong ceng shang sheng chang de Ni Feceng biao mian jun fang gen cu cao du ,fa xian ji sui Tahuan chong ceng hou du de zeng jia er jian xiao ,biao ming NiFe/FeMnjie mian bian de geng jia jun yun ,zhe dao zhi le jiao da de Hehe jiao xiao de Hc。ling wai ,tong guo XRDfen xi ,fa xian sui zhao Taceng hou du de zeng jia Tayou fei jing tai zhuai hua wei jie jing zhuang tai bing xian hou xian shi chu Ta(300)、Ta(200)qu xiang ,biao ming sui zhao Tahuan chong ceng hou du zeng jia ,ji zhi gou zhuai bian ye ke neng hui dao zhi jing tai ci xing de bian hua 。
论文参考文献
论文详细介绍
论文作者分别是来自磁性材料及器件的邹延珂,周俊,倪径,郭韦,徐德超，发表于刊物磁性材料及器件2019年04期论文，是一篇关于薄膜论文,缓冲层论文,交换偏置论文,微结构论文,静态磁性能论文,磁性材料及器件2019年04期论文的文章。本文可供学术参考使用，各位学者可以免费参考阅读下载，文章观点不代表本站观点，资料来自磁性材料及器件2019年04期论文网站，若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权，请联系我们删除。