应用软刻技术构造胶体晶体有序微结构

应用软刻技术构造胶体晶体有序微结构

论文摘要

本论文以软刻技术为基础,发展了一种图案化胶体晶的新方法——揭起软光刻技术,利用此方法可以选择性地对胶体晶进行Layer-by-layer 地揭起并图案化,当结合PDMS 模板易发生形变及表面微结构易坍塌的特性,我们还可以构造出不同于原来PDMS 模板形貌的亚微米级的胶体晶微结构。同时揭起软光刻过程中被转移到PDMS 模板表面的二维胶体晶可以做为微接触印刷的“墨水”进行转移,因此我们又发展了一种改进的微接触印刷技术:使用聚乙烯醇膜作为“胶水”,为“墨水”胶体微球与基底表面之间提供一种有效的相互作用,实现了胶体晶向任意基底甚至是曲面基底的转移,同时在微接触印刷过程中通过溶胀或拉伸PDMS 模板调整和改变二维胶体晶的球间距和晶格结构。

论文目录

  • 第一章 文献综述
  • 第1节 表面图案化技术
  • 1.1.1 光刻技术
  • 1.1.2 软光刻技术(soft lithography)
  • 1.1.2.1 软光刻技术简介
  • 1.1.2.2 软光刻技术的拓展
  • 第2节 胶体晶体及其图案化方法
  • 1.2.1 胶体晶体简介
  • 1.2.2 物理模板陷域法
  • 1.2.3 化学模板陷域法
  • 第3节 本课题选题的意义和思路
  • 第二章 以揭起软光刻技术进行胶体晶体的图案化
  • 第1节 引言
  • 第2节 实验部分
  • 2.2.1 实验材料
  • 2.2.2 实验方法
  • 2.2.3 表征仪器
  • 第3节 结果与讨论
  • 2.3.1 以揭起软光刻技术进行胶体晶体的图案化
  • 2.3.2 以改进的揭起软光刻技术进行胶体晶体的精确图案化
  • 2.3.3 二维胶体晶体在PDMS 软基底上的图案化
  • 第4节 本章小结
  • 第三章 以胶体晶体为墨水进行微接触印刷
  • 第1节 引言
  • 第2节 实验部分
  • 3.2.1 实验材料
  • 3.2.2 实验方法
  • 3.2.3 表征仪器
  • 第3节 结果与讨论
  • 3.3.1 以微接触印刷技术实现胶体晶体在任意基底上的图案化
  • 3.3.2 在微接触印刷过程中构造二维非紧密堆积的胶体晶体
  • 第4节 本章小结
  • 参考文献
  • 导师及作者简介
  • 攻读硕士期间发表论文
  • 致谢
  • 中文摘要
  • 英文摘要
  • 相关论文文献

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    • [3].负压驱动皮升级等温核酸精确定量微流控芯片[J]. 色谱 2017(03)
    • [4].PDMS在使用软光刻技术制作微透镜阵列的转印效果分析[J]. 南昌航空大学学报(自然科学版) 2014(03)
    • [5].聚合物弹性印章的制作工艺[J]. 纳米技术与精密工程 2008(02)
    • [6].微流控芯片的制备及其对糖类物质的检测[J]. 武汉工程大学学报 2016(01)
    • [7].喷墨印刷/软光刻技术结合气相聚合法制备聚3,4-乙撑二氧噻吩图像[J]. 中国印刷与包装研究 2010(04)
    • [8].基于离心微流技术的阵列化检测芯片[J]. 微纳电子技术 2016(10)
    • [9].不同介电质层对弹性体表面形貌的调控作用[J]. 中国表面工程 2013(01)

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