论文摘要
微晶硅电池已经成为目前光伏领域研究的焦点。同非晶硅相比微晶硅电池几乎没有SWE问题,应用在电池中也几乎不受后氧化的影响,而且微晶硅的光谱吸收特性与非晶硅有一定的互补性,应用于叠层电池中可以获得更高效率的电池。基于这个目的,我们采用RF-PECVD技术制备了P、I、N三层薄膜材料和微晶硅太阳电池,并对它们的结构特性和电学特性进行了分析。本论文主要进行了如下几方面的工作:1) P层作为微晶硅薄膜太阳电池的窗口层,必须具备宽的光学带隙和高的电导率。实验研究了硅烷浓度、硼烷掺杂浓度对材料的沉积速率、材料晶化、电导率等性能参数的影响。通过优化沉积参数,制备出了高暗电导率(~2.8×10-5S/cm)、宽光学带隙(~1.87eV)的P型μc-Si:H薄膜材料。2)非晶N层的制备。为了提高N层与金属电极欧姆接触的性能,可适当提高磷烷的掺杂浓度。通过磷烷掺杂浓度的优化,可以获得暗电导率为8.28×10-1S/cm的N层非晶硅薄膜。3) I层是电池的核心部分,是光生载流子的产生区。本文重点研究了衬底温度和硅烷浓度对μc-Si:H薄膜材料的微结构以及光电学特性的影响。4)在上面研究的基础上,本文初步研究了微晶硅薄膜太阳电池的沉积工艺。采用了微晶P/微晶I/非晶N型结构,获得了效率为3.014%的微晶硅太阳能电池。5)除了初步界定了薄膜材料和电池的一些表征参数外,同时也针对存在的问题指明了解决的方向。
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