微透镜阵列的设计、制作及与CCD的集成技术

论文题目: 微透镜阵列的设计、制作及与CCD的集成技术

论文类型: 博士论文

论文专业: 物理电子学

作者: 柯才军

导师: 易新建

关键词: 微光学,微透镜阵列,微光电机系统,衍射效率,点扩散函数,填充因子,图像传感器,光电集成

文献来源: 华中科技大学

发表年度: 2005

论文摘要: 随着现代光学的发展,微光学元件的研究和在各个领域中的应用已经引起国内外科研工作者越来越高度的重视。微透镜阵列就是其中一种重要的微光学元件。本文对于微透镜阵列的设计理论、制作工艺、性能测试进行研究,并着重研究了微透镜阵列与CCD 图像传感器的集成技术,达到改善图像传感器光敏性的目的。本文的主要内容如下: (1) 概述了微光学技术的发展以及微光学元件的种类,介绍了微透镜阵列的研究和应用以及微透镜阵列与CCD 图像传感器集成应用现状。(2) 介绍了微透镜阵列的光学设计理论。包括折射微透镜的几何光学设计方法和衍射微透镜的衍射光学设计理论。对折射和衍射透镜的色散效应进行了理论上的分析。基于严格的矢量衍射理论,分析了亚波长结构衍射元件的衍射机理。此外,本文还分析了制作误差等因素对微透镜阵列衍射效率的影响,对系统中的光能损失进行了分析。(3) 对实用情况下出现的小冠高衍射微透镜,提出了表面直接台阶量化的设计方法,并将此方法应用于CCD 图像传感器的微透镜阵列进行了设计。此方法可以避免采用一般的设计方法对小冠高衍射微透镜设计时所出现的有限台阶数的问题,有效地保证了微透镜保持较高的衍射效率。(4) 基于MEMS(微电子机械系统,Micro-Electro-Mechanical-System)工艺,讨论了微透镜的制作方法,包括紫外光刻、图形转移方法。尤其是对三组分气体SF6/O2/CHF3 反应离子刻蚀方法进行了深入的研究,在硅衬底上得到了比较理想的图形转移效果。同时,首次进行了以聚合物为基的微透镜的制作,并制作出了比较理想的微透镜。(5) 建立了针对微透镜的微光学测试系统,介绍了参数的测量方法,可以测量微透镜的点扩散函数、衍射效率、焦长等性能参数,使得可以有效地对制作的微透镜进行评价。文中同时分析了测量中的误差及影响因素。(6) 对场镜形式的微透镜与CCD 集成系统的聚光效率问题进行了光学分析,使得集成器件有最好的光耦合效果。(7) 重点研究了衍射微透镜在256×256 元Pt/Si IRCCD 上的应用。通过将衍射微

论文目录:

摘要

ABSTRACT

1 绪论

1.1 概述

1.2 微透镜及阵列

1.3 微透镜阵列的制作

1.4 微透镜与图像传感器的集成

1.5 本论文的研究

2 微光学元件设计理论

2.1 折射微透镜的几何光学设计理论

2.2 衍射微透镜的标量设计理论

2.3 衍射微透镜的衍射效率

2.4 衍射元件的矢量理论-耦合波理论

2.5 折射和衍射光学元件的色散

2.6 光学系统中的光能损失

2.7 本章小节

3 微透镜阵列的制作

3.1 光刻技术

3.2 图形转移技术

3.3 反应离子刻蚀技术

3.4 微透镜的制作工艺

3.5 特种材料为基的微透镜的制作

3.6 本章小结

4 微光学性能测试

4.1 微透镜质量评价方法

4.2 表征聚能微透镜性能的主要参数

4.3 微光学测试系统

4.4 影响测量精度的因素分析

4.5 本章小节

5 微透镜阵列与CCD 集成研究

5.1 CCD 图像传感器

5.2 微透镜改善图像传感器性能分析

5.3 集成系统光学分析

5.4 集成实验研究

5.5 影响集成器件整体性能的因素

5.6 本章小节

6 总结与展望

致谢

参考文献

附录1 攻读博士学位期间发表的论文目录

附录2 申请专利

发布时间: 2006-04-05

参考文献

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