论文摘要
电容层析成像技术是基于电容敏感机理的过程成像技术,以其非辐射、非侵入、响应速度快、结构简单、成本低、适用范围广、安全性能好等优点,成为目前过程层析成像技术发展的主流和研究热点,具有广泛的工业应用前景。本文针对传感器敏感场分布、传感器结构参数优化设计等关键技术问题进行了较全面深入的研究。首先,电容层析成像技术(ECT)是一种基于电容传感器机理的过程成像技术,以12电极电容阵列传感器ECT系统为背景,深入研究电容层析成像系统的技术特点和系统组成。从理论上分析ECT系统的工作原理,采用有限元方法对系统进行建模与分析,介绍了敏感场的计算方法,借助大型ANSYS有限元分析工具,建立电容传感器结构模型,并得到电极间敏感场的分布,分析了电容传感器在不同参数下电容变化情况,为了避免粒子在全局附近振荡和粒子陷入局部最优,提出了改进PSO与改进混沌搜索策略的混合新算法。以敏感场整体灵敏度大小系统性能为目标,优化了电容传感器结构,得到了一组最优的传感器结构参数,提高了敏感场的灵敏度和均匀性,使传感器性能得到明显的改善。其次,利用ANSYS编程语言和C语言实现了本文提出的方法和算法,具有传感器建模、自动剖分、电容及敏感场分布自动计算、结构参数优化和多种图象重建等功能。
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