导读:本文包含了圆平面靶论文开题报告文献综述及选题提纲参考文献，主要关键词:直流磁控溅射,刻蚀形貌,模拟,圆平面靶
圆平面靶论文文献综述
黄英,韩晶雪,李建军,常亮,张以忱[1]（2013）在《直流磁控溅射中磁场强度和阴极电压对圆平面靶刻蚀形貌的影响》一文中研究指出本文借助Comsol和Matlab软件模拟了直流磁控溅射圆平面靶系统的磁场分布和荷电粒子分布,对不同磁场强度和阴极电压条件下的荷电粒子分布进行了模拟分析,通过比较靶面离子流密度分布曲线发现:当磁场强度增强时,靶面离子流密度分布曲线会变得更加陡窄;当阴极电压变化时,靶面离子流密度分布曲线几乎没有变化。说明靶材的刻蚀形貌会随磁场强度增强而变窄,而阴极电压变化对靶材的刻蚀形貌没有影响。上述结论对直流磁控溅射工艺参数优化具有一定的理论指导意义。(本文来源于《真空》期刊2013年03期）
张以忱,高士铁,陈旺[2]（2010）在《小圆平面靶磁控溅射镀膜均匀性研究》一文中研究指出本文从圆平面靶磁控溅射的原理出发,针对圆形平面靶面积小于基片面积的特点进行分析,建立膜厚分布的数学模型,并利用计算机进行模拟计算,目的在于探寻平面靶材面积小于基片面积时影响膜厚均匀性的因素。模拟计算的结果表明:基片偏心自转时,靶基距和偏心距对膜厚分布均有影响。偏心距一定时,随着靶基距的增大,薄膜厚度变小,膜厚均匀性有提高的趋势;靶基距一定时,随着偏心距的增大,膜厚均匀性先变好后变差。当基片自转复合公转时,随着转速比的增大,膜厚均匀性逐渐变好,转速比增大到一定程度后,它对膜厚均匀性的影响逐渐变小。圆形平面靶的刻蚀环范围的变化对薄膜的均匀性有一定的影响。这些理论为小圆平面磁控溅射系统的设计和实际应用提供了理论依据。(本文来源于《真空》期刊2010年02期）
董连俊[3]（2008）在《小圆平面靶磁控溅射镀膜均匀性的研究》一文中研究指出磁控溅射镀膜是工业镀膜生产中最主要的技术之一,薄膜厚度均匀性是衡量薄膜质量和镀膜装置性能的一项重要指标。现今生产所用的磁控溅射镀膜技术,为力求好的膜厚均匀性,往往将磁控靶的尺寸做得比基片尺寸大,虽然能够保证膜厚的均匀性良好,但是这样很容易造成靶材的浪费,提高了生产成本。因此膜厚均匀性相关问题的研究将具有重要的学术和应用价值。本文从圆平面磁控溅射的原理出发,针对所使用的圆形平面靶面积小的特点,设计出一种能够实现基片偏心自转和自转与公转复合运动的基片旋转机构,能够利用小靶在较大面积的基片上镀制厚度均匀的薄膜。根据磁控溅射相关理论,对所设计的圆形平面靶磁控溅射装置进行分析,建立膜厚分布的数学模型,并利用计算机进行模拟计算。模拟计算的结果表明：基片偏心自转时,靶基距和偏心距对膜厚分布均有影响,在一定范围内,随着靶基距的增大,薄膜厚度变小,膜厚均匀性有提高的趋势；随着偏心距的增大,膜厚均匀性先变好后变差。同时,圆形平面靶的刻蚀范围大小对膜厚也有重要的影响,随着刻蚀范围的增大,薄膜厚度增加明显,即沉积速率增加,而对膜厚均匀性的影响不大。基片做自转与公转复合运动镀膜时,靶基距、偏心距和自转与公转的转速比对膜厚均匀性的影响较大。在一定范围内,随着靶基距的增大,薄膜厚度变小,膜厚均匀性有提高的趋势；随着偏心距的增大,膜厚均匀性先逐渐变好之后逐渐变差；转速比增大时,膜厚均匀性逐渐变好,转速比增大到一定程度后,它对膜厚均匀性的影响逐渐变小。溅射靶的刻蚀范围增大,薄膜的沉积速率明显增加,膜厚均匀性变化较小通过基片旋转机构的设计,以及对小圆平面靶磁控溅射镀膜膜厚均匀性的计算分析,证明利用面积较小的圆形平面磁控溅射靶,配合所设计的基片旋转机构,能够在基片上较大范围内获得均匀性良好的薄膜。为小圆平面磁控溅射系统的实际应用提供了理论依据。(本文来源于《东北大学》期刊2008-06-01）
圆平面靶论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
本文从圆平面靶磁控溅射的原理出发,针对圆形平面靶面积小于基片面积的特点进行分析,建立膜厚分布的数学模型,并利用计算机进行模拟计算,目的在于探寻平面靶材面积小于基片面积时影响膜厚均匀性的因素。模拟计算的结果表明:基片偏心自转时,靶基距和偏心距对膜厚分布均有影响。偏心距一定时,随着靶基距的增大,薄膜厚度变小,膜厚均匀性有提高的趋势;靶基距一定时,随着偏心距的增大,膜厚均匀性先变好后变差。当基片自转复合公转时,随着转速比的增大,膜厚均匀性逐渐变好,转速比增大到一定程度后,它对膜厚均匀性的影响逐渐变小。圆形平面靶的刻蚀环范围的变化对薄膜的均匀性有一定的影响。这些理论为小圆平面磁控溅射系统的设计和实际应用提供了理论依据。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
圆平面靶论文参考文献
[1].黄英,韩晶雪,李建军,常亮,张以忱.直流磁控溅射中磁场强度和阴极电压对圆平面靶刻蚀形貌的影响[J].真空.2013
[2].张以忱,高士铁,陈旺.小圆平面靶磁控溅射镀膜均匀性研究[J].真空.2010
[3].董连俊.小圆平面靶磁控溅射镀膜均匀性的研究[D].东北大学.2008