化学气相沉积法制备GaN相关的纳米材料

化学气相沉积法制备GaN相关的纳米材料

论文摘要

GaN作为第三代半导体材料的典型代表,其研究备受瞩目,被认为是制造蓝光二极管和大功率光电子器件最理想材料。由于GaN纳米材料具有许多明显不同于其块体材料的独特性质,以及在可见光和紫外光光电子器件方面具有广泛的应用前景,近年来对低维GaN纳米材料的研究越来越受到人们的关注,并逐渐成为纳米材料领域的研究热点。但是,目前对GaN纳米材料的合成工艺、微观结构等方面的研究还处在一个初级阶段。因此在这方面非常有必要进行较为深入的研究。本文选用价廉的原料Ga2O3为镓源、NH3作为氮源、H2为还原气体、N2为载气体,采用化学气相沉积方法在Si衬底上合成了形貌各异的GaN低维纳米结构。在前人工作的基础上,对制备工艺进行了的研究。获得主要结论如下:(1)合成反应过程中气体通入方式会影响合成产物的组成和形貌,采用还原气体、载气和N源气体同时通入的方式是最有利的气体通入方式。作为还原气体的H2流量为25sccm (standard cubic centimeter per minute), N2流量为100sccm时,可以在硅基体上沉积出理想的GaN颗粒膜。(2)Si基体的放置位置对产物的获得有着重要的影响。在距炉中心13-21cm处为产物获得区,在该区域内按照距离炉子中心由远及近分别易形成一维的GaN纳米线、GaN薄膜和GaN/Ga2O3膜。(3)将Si基体放置在较低的炉温区域,制备出花束状的GaN/Ga2O3的混合物,该花束状结构是由表面不光滑、从根部向上逐渐变粗的纳米棒组成。(4)Ga203分解生成的Ga元素与Si基体形成Ga-Si合金,按照气—液—固(VLS)生长机制生长成类柳絮状的SiOx纳米结构,是金属Ga的自催化作用生长出无数根SiOx纳米线。

论文目录

  • 摘要
  • Abstract
  • 第1章 绪论
  • 1.1 纳米材料概述
  • 1.2 GaN的性质
  • 1.2.1 GaN晶体结构与物理特性
  • 1.2.2 GaN的化学特性
  • 1.2.3 GaN的电学特性
  • 1.2.4 GaN的光学特性
  • 1.3 一维GaN纳米材料制备方法及生长机制
  • 1.3.1 模板辅助制备
  • 1.3.1.1 碳纳米管模板法
  • 1.3.1.2 多孔阳极氧化铝膜(AAO)模板法
  • 1.3.1.3 SiNx模板法
  • 1.3.1.4 ZnO纳米线模板法
  • 1.3.2 催化剂辅助气相反应
  • 1.3.3 非模板、非催化剂辅助气相反应
  • 1.3.3.1 气相蒸发法
  • 1.3.3.2 氧化辅助生长GaN纳米线
  • 1.3.3.3 两步生长模式合成GaN纳米线
  • 1.4 GaN薄膜制备方法
  • 1.4.1 金属有机化合物化学气相沉积(MOCVD)法
  • 1.4.2 分子束外延(MBE)法
  • 1.4.3 氢化物气相外延(HVPE)法
  • 1.4.4 两步生长GaN薄膜的技术
  • 1.4.5 热壁(HWE)、磁控溅射(MS)、溶胶—凝胶(Sol-Gel)法
  • 1.5 GaN 纳米材料的应用
  • 1.5.1 发光器件
  • 1.5.2 场效应晶体管
  • 1.5.3 紫外探测器
  • 1.6 本文研究目的、意义和内容
  • 第2章 实验方法
  • 2.1 实验设备
  • 2.2 实验所用材料及试剂
  • 2.2.1 实验原料
  • 2.2.2 实验试剂
  • 2.2.3 基片
  • 2.3 样品制备
  • 2.3.1 硅片的清洗
  • 2.3.2 反应腔体清理
  • 2.3.3 装炉
  • 2.3.4 清洗炉管
  • 2.3.5 炉子升温
  • 2.3.6 制备过程中气路系统操作
  • 2.3.7 观测反应现象并认真记录每个细节
  • 2.3.8 关闭系统操作
  • 2.3.9 取样品
  • 2.4 测试表征手段
  • 2.4.1 扫描电镜(SEM)
  • 2.4.2 透射电子显微镜(TEM)
  • 2.4.3 X射线衍射(XRD)
  • 第3章 实验参数变化对实验的影响
  • 3.1 实验原理
  • 3.2 反应气体不同通入方式对实验的影响
  • 3.2.1 实验内容
  • 3.2.2 实验结果与讨论分析
  • 2通入量对实验的影响'>3.3 H2通入量对实验的影响
  • 3.3.1 实验内容
  • 3.3.2 实验结果与讨论分析
  • 2通入量对实验影响'>3.4 N2通入量对实验影响
  • 3.4.1 实验内容
  • 3.4.2 实验结果与讨论分析
  • 3.5 Si基体放置位置对实验影响
  • 3.5.1 实验内容
  • 3.5.2 实验结果与讨论分析
  • 第4章 新颖纳米结构的制备
  • 3/GaN纳米结构的制备'>4.1 花束状Ga2O3/GaN纳米结构的制备
  • 4.1.1 实验条件
  • 4.1.2 实验结果与讨论
  • 4.1.3 生长机理分析
  • x的制备'>4.2 类柳絮状SiOx的制备
  • 4.2.1 实验条件
  • 4.2.2 实验结果与讨论
  • 4.2.3 生长机理分析
  • 第5章 结论
  • 参考文献
  • 致谢
  • 相关论文文献

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