可录光盘存储介质的合成及其耐光性研究

论文题目: 可录光盘存储介质的合成及其耐光性研究

论文类型: 硕士论文

论文专业: 应用化学

作者: 王密

导师: 刘福德

关键词: 可录光盘,菁染料,单线态氧猝灭剂

文献来源: 天津理工大学

发表年度: 2005

论文摘要: 以存储密度高、存储寿命长为特点的光盘存储技术是信息科技的重要组成部分,存储介质一直是光存储技术中的关键问题。与无机材料相比,有机介质材料具有灵敏度高、容易加工和便于调整结构性能等特点。当前广泛使用的有机光存储介质包括菁染料、酞菁染料、偶氮染料等。由于菁染料与其他染料相比具有较好的溶解性能、易于制备、成本更低等优点,在光盘存储方面具有很大的研究和应用潜能,因此引起了人们的高度重视。本论文简要介绍了可录光盘染料的基本概念,主要包括其记录机理、基本类型和其配制、涂布、洗边等主要工艺。本论文的研究工作主要分为以下几个部分:1.合成了四种光盘用菁染料(1)3,3,3’,3’-四甲基-1,1’-二正丁基吲哚三碳菁高氯酸盐(2)3,3,3’,3’-四甲基-1,1’-二正丁基苯并吲哚三碳菁高氯酸盐(3)3,3,3’,3’-四甲基-1,1’-二正丁基吲哚二碳菁高氯酸盐(4)3,3,3’,3’-四甲基-1,1’-二正丁基苯并吲哚二碳菁高氯酸盐2.合成了两种单线态氧猝灭剂(1)3,4-二巯基-吗啉苯磺酸镍络合物季铵盐(2)N,N-二乙基-3,4-二巯基苯磺酰胺镍络合物季铵盐3.合成了两种配对离子化合物(1)吗啉配对离子化合物(2)二乙胺配对离子化合物4.采用红外光谱和核磁共振谱对上述合成产物进行结构表征,结果表明与理论结构相符;采用紫外分光光度计测定了所合成菁染料的吸收光谱;在碘-钨灯照射条件下对产物进行耐光性测试,结果表明上述两种单线态氧猝灭剂能够显著提高菁染料的耐光性。

论文目录:

摘要

ABSTRACT

第一章绪论

1.1 光信息存储技术

1.2 光信息存储系统

1.3 可录式光盘（CD-R）

1.4 光盘用染料

1.5 光盘用猝灭剂

第二章可录光盘存储介质的设计

2.1 3,3,3ˊ,3ˊ-四甲基－1,1ˊ-二正丁基吲哚二(三)碳菁高氯酸盐的设计

2.2 3,3,3ˊ,3ˊ-四甲基－1,1ˊ-二正丁基苯并吲哚二(三)碳菁高氯酸盐的设计

2.3 单线态氧猝灭剂的设计

2.4 配对离子化合物的设计

第三章可录光盘存储介质的合成

3.1 七甲川菁染料的合成

3.2 五甲川菁染料的合成

3.3 单线态氧猝灭剂的合成

3.4 配对离子化合物的合成

第四章结果与讨论

4.1 菁染料的结构表征

4.2 单线态氧猝灭剂的结构表征

4.3 配对离子化合物的结构表征

4.4 吸收光谱分析

第五章结论

参考文献

致谢

附录

发布时间: 2007-08-01

参考文献

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可录光盘存储介质的合成及其耐光性研究

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