论文摘要
本论文研究了直流热阴极辉光放电特性,建立了稳定的直流辉光等离子体化学气相沉积金刚石膜的工艺。研究了金刚石膜的生长特性,包括表面形貌、截面特性以及金刚石膜的品质等。完善了高导热、高磨耗比金刚石膜的制备工艺,实现了高导热金刚石膜的快速生长。研究了金刚石膜沉积过程中的微裂纹和爆裂现象,提出了减少微裂纹和爆裂的措施。
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