IIL单元电路的工艺制造方法浅谈

IIL单元电路的工艺制造方法浅谈

论文摘要

当今社会,消费类电子产品已经被大众普遍接受和追捧。但随着集成电路的大量应用和相关电子产品竞争的日益激烈,更好的节约成本进而赢得利润成为商家尤为关注的焦点。本文以实际生产制造过程中,某芯片采用的一种特殊工艺单元结构集成注入逻辑为研究对象,对该单元器件的功能以及如何实现并优化大规模加工工艺进行探究。最终确定了该产品的工艺加工流程,并实现风险量产,成为公司双极型工艺平台上一个极具竞争力和有特色的产品。集成注人逻辑电路(Integration Injection Logical Circuit,后文简称IIL电路)是在常规双极型集成电路工艺的基础上经过改进而成的一种高集成密度、双极型逻辑电路。它是一种单端输入、多端输出的反相器。基本单元通常由一个横向PNP管和一个倒置的多集电极NPN管组成,这两个管子有两对电极是共用的,即PNP管的集电极和NPN管的基极共用,PNP管的基极和NPN管的发射极共用,二者相互耦合成一个统一的整体,因此也将IIL电路称为并合晶体管逻辑电路。从问世以来,IIL电路由于它的电路结构简单,元件少,不需要隔离,结构紧凑,不用电阻、使用独特的并合PNP—NPN器件,在低功耗下有着相对较高的速度,克服了双极型电路在大规模集成时所遇到的种种困难。可谓给双极型集成电路的芯片设计提供了新途径,再加上此种结构电路的工艺与其他双极型集成电路兼容性很好,无需增加任何特殊工艺步骤或加工层次,从而大大降低制造成本。IIL电路能使设计人员把数字电路和模拟电路放在同一块芯片中,用来制造高性能、低成本的数字/模拟混合的LSI和VLSI电路。本论文会针对标准的IIL电路如何具体应用于实际电路加工工艺中进行详尽地阐述,期间对于工艺上遇到的诸多问题都会通过基于实际产品工程投产中的实验设计和实验结果进行探索与讨论,尽可能在实现客户要求的同时,完善该单元结构的各种性能。文中所引用的实验数据真实可靠,具有很好的工艺借鉴价值,因为IIL电路在工艺制造上有一定难度,不是所有集成电路厂家都有这方面的数据积累。文中阐述的IIL电路工艺制造技术,具有先进性和创新性,并且有很好的工艺相溶性,实用价值较高。

论文目录

  • 摘要
  • Abstract
  • 引言
  • 第一章 绪论
  • 1.1 IIL电路基本单元结构
  • 1.2 IIL电路的工作原理
  • 1.3 IIL基本电路分析与工艺设计
  • 第二章 IIL结构DN隔离环的作用与实现方案分析
  • 2.1 IIL结构讨论使用DN隔离环的作用与背景
  • 2.2 DN隔离环实验的设计
  • 2.3 DN隔离环实验结论分析
  • 2.4 本章小结
  • 第三章 IIL结构应用Bipolar 18V深结工艺的实现
  • 3.1 实验背景与工艺平台简介
  • 3.2 IIL工艺实现实验的设计
  • 3.3 IIL工艺实现实验的实施
  • 3.4 IIL工艺实现实验结论与分析
  • 3.5 本章小结
  • 第四章 全文总结
  • 参考文献
  • 致谢
  • 附录
  • 相关论文文献

    • [1].双极型集成电路可靠性技术[J]. 电子技术与软件工程 2016(22)
    • [2].国产衬底片在双极型集成电路制造中的应用[J]. 集成电路应用 2018(03)
    • [3].双极型集成电路的版图设计工艺[J]. 兴义民族师范学院学报 2012(06)
    • [4].双极型集成电路可靠性技术[J]. 微电子学 2010(05)
    • [5].双极型集成电路与恒流二极管的兼容制造[J]. 科技视界 2015(06)
    • [6].同步辐射的基本知识 第六讲同步辐射中的光刻、微加工和其他技术及其应用[J]. 理化检验(物理分册) 2010(01)

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