大面积玻璃基片磁控溅射镀膜膜层性质和特性的研究

论文摘要

本篇论文讨论的是有关玻璃材料表面改性的问题。在对玻璃、玻璃深加工、深加工的主要物理方法以及磁控溅射沉积方法作了简单介绍后，对玻璃镀膜膜层的主要品质和特性：针孔、结合力、耐磨性、均匀性、化学稳定性、光学性质、热学性质和电学性质展开了尽可能全面细致的分析和讨论。其中涉及了镀膜设备、沉积工艺、镀膜材料、膜系结构以及自然科学的诸多层面。在展示现代真空技术在这一领域中取得成就的同时，也把其中包括的科技内涵作了较为系统的分析、归纳、概括和总结，对业内人士可有一定的启迪和参考作用。

论文目录

• 摘要
• Abstract
• 绪言
• 第一章 玻璃
• 第二章 玻璃深加工
• 第三章 溅射镀膜
• 3.1 直流溅射
• 3.2 射频溅射
• 3.3 反应溅射
• 3.4 磁控溅射
• 第四章 磁控溅射
• 4.1 直流磁控溅射
• 4.2 反应磁控溅射
• 4.3 偏压磁控溅射
• 4.4 中频磁控溅射和脉冲磁控溅射
• 4.5 磁控溅射的阴极
• 4.6 磁控溅射气体放电激励的类型
• 第五章 玻璃镀膜膜层品质和特性
• 5.1 针孔
• 5.2 结合力
• 5.3 耐磨性
• 5.4 均匀性
• 5.5 化学稳定性
• 5.6 光学特性
• 5.7 热学特性
• 5.8 电学特性
• 第六章 结束语
• 参考文献