本文主要研究内容
作者王爽,白杉,徐平,王树英,郭雅尘,左文家,张腾月,周渊名,梁雪松,洪梅（2019）在《辉光放电质谱法在高纯材料分析中的应用》一文中研究指出：高纯材料是现代高新技术发展的基础,在电子、光学和光电子等尖端科学领域发挥着重要作用。采用固体样品直接分析的辉光放电质谱法(GDMS),在高纯金属、高纯半导体材料的痕量和超痕量杂质分析中有着非常广泛的应用。综述了GDMS法对高纯金属、高纯半导体材料进行的元素分析,并对分析过程中工作参数、溅射时间、干扰峰等因素的影响进行了阐述。同时,也详述了应用GDMS法对高纯金属钛、镉,高纯半导体硅,分别进行的痕量杂质元素分析,结果显示放电稳定性良好,典型元素含量的相对标准偏差均在较为理想范围内。GDMS应用前景广泛,未来,GDMS将在除固体样品之外的其他样品类型的分析领域中发挥重要作用。
Abstract
gao chun cai liao shi xian dai gao xin ji shu fa zhan de ji chu ,zai dian zi 、guang xue he guang dian zi deng jian duan ke xue ling yu fa hui zhao chong yao zuo yong 。cai yong gu ti yang pin zhi jie fen xi de hui guang fang dian zhi pu fa (GDMS),zai gao chun jin shu 、gao chun ban dao ti cai liao de hen liang he chao hen liang za zhi fen xi zhong you zhao fei chang an fan de ying yong 。zeng shu le GDMSfa dui gao chun jin shu 、gao chun ban dao ti cai liao jin hang de yuan su fen xi ,bing dui fen xi guo cheng zhong gong zuo can shu 、jian she shi jian 、gan rao feng deng yin su de ying xiang jin hang le chan shu 。tong shi ,ye xiang shu le ying yong GDMSfa dui gao chun jin shu tai 、ge ,gao chun ban dao ti gui ,fen bie jin hang de hen liang za zhi yuan su fen xi ,jie guo xian shi fang dian wen ding xing liang hao ,dian xing yuan su han liang de xiang dui biao zhun pian cha jun zai jiao wei li xiang fan wei nei 。GDMSying yong qian jing an fan ,wei lai ,GDMSjiang zai chu gu ti yang pin zhi wai de ji ta yang pin lei xing de fen xi ling yu zhong fa hui chong yao zuo yong 。
论文参考文献
论文详细介绍
论文作者分别是来自中国无机分析化学的王爽,白杉,徐平,王树英,郭雅尘,左文家,张腾月,周渊名,梁雪松,洪梅，发表于刊物中国无机分析化学2019年02期论文，是一篇关于辉光放电质谱法论文,高纯金属论文,高纯半导体论文,应用论文,中国无机分析化学2019年02期论文的文章。本文可供学术参考使用，各位学者可以免费参考阅读下载，文章观点不代表本站观点，资料来自中国无机分析化学2019年02期论文网站，若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权，请联系我们删除。
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