905nm带通滤光片制备工艺的研究

论文摘要

带通滤光片作为滤光和选择谱线的元件,已经广泛应用于光纤通信、分析仪器及激光系统当中。本文针对905nm红外半导体激光系统中使用的带通滤光片,从理论上分析了滤光片的抗激光损伤及光学稳定性,并从材料选择和制备工艺的角度提出了适当的解决方案,借助膜系设计软件完成了滤光片的设计,在TXX-700真空镀膜机上完成了本实验,并利用UV3150分光光度计测试光谱曲线。根据滤光片的光谱性能及其在大气环境中放置一段时间后的变化,改进了制备工艺,最终得到了满足系统要求的带通滤光片。

论文目录

• 摘要
• ABSTRACT
• 目录
• 第一章 绪论
• 1.1 光学薄膜的发展历史
• 1.2 本课题的研究意义和研究内容
• 第二章 带通滤光片的基本理论
• 2.1 带通滤光片的特性参数
• 2.2 金属与介质膜合成的Fabry-Perot型滤光片
• 2.3 全介质Fabry-Perot滤光片
• 2.4 矩形多半波带通滤光片
• 第三章 薄膜的抗激光损伤及光学稳定性
• 3.1 光学薄膜的抗激光损伤理论
• 3.2 带通滤光片的光学稳定性
• 第四章 带通滤光片的设计
• 4.1 选择薄膜材料的依据
• 4.2 薄膜材料的选择
• 4.3 滤光片结构形式的选择
• 4.4 膜系设计
• 第五章 真空镀膜设备
• 5.1 镀膜室配置
• 5.2 抽气系统
• 5.3 膜厚控制系统
• 第六章 带通滤光片的制备
• 6.1 薄膜制备的工艺因素
• 6.2 材料光学常数的确定
• 6.3 滤光片膜系的修正
• 6.4 滤光片的制备过程
• 6.5 测试结果及分析
• 6.6 薄膜制备工艺的改进
• 6.7 工艺改进后的测试结果及分析
• 第七章 测试结果及误差分析
• 7.1 测试结果
• 7.2 误差分析
• 总结
• 致谢
• 参考文献
• 攻读硕士期间发表的论文