论文摘要
本论文系统研究了渐变折射率大角度宽波带减反射薄膜的优化设计和制备工艺。以特性矩阵计算方法为基础,采用混合遗传算法,完成了以载玻片玻璃为基底的渐变折射率减反射膜系结构的优化设计。利用电子束斜角沉积技术获得了不同沉积角度下单层纳米柱状SiO2薄膜,利用场发射扫描电镜(FESEM)、原子力显微镜(AFM)、X射线衍射仪(XRD)、X射线能量色散谱(EDS)、光谱型椭圆偏振仪等测试仪器研究了所得薄膜样品的形貌、相结构、成分组成以及折射率色散情况。在此基础上,镀制了四层具有渐变折射率性质的减反射膜,并用紫外-可见-近红外分光光度计研究了其大角度、宽波带减反射效果。结果表明:(1)在玻璃基底上优化设计的具有折射率梯度变化性质的四层减反射膜系结构,理论上在入射角度为0~75°、波长为380nm~780nm的范围内总平均反射率可以达到0.21%。(2)制备的单层SiO2薄膜呈现纳米柱状结构,并随沉积角度的增大,其结构倾斜角随之增大。(3)在改变沉积角度的情况下,获得了折射率可在1.46~1.11之间任意可调的纳米柱状SiO2薄膜。并找到了折射率与沉积角度之间的对应关系,以及在特定沉积角度下实际厚度与晶振监控厚度的对应关系。(4)利用所得折射率的信息,参考优化设计的结构,成功获得了具有大角度、宽波段减反射特性的四层减反射薄膜。
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摘要Abstract目录第一章 绪论1.1 引言1.2 减反射薄膜的研究历史1.2.1 均质减反射薄膜1.2.2 渐变折射率减反射薄膜1.3 减反射原理1.4 渐变折射率减反射薄膜的研究现状1.4.1 "蛾眼"效应1.4.2 渐变折射率薄膜的理论设计方法1.4.3 渐变折射率薄膜的制备方法1.5 研究内容简介第二章 膜系结构的优化设计及其算法的实现2.1 薄膜光谱特性的计算2.1.1 多光束干涉原理2.1.2 薄膜特性矩阵2.2 光学薄膜优化设计方法简介2.2.1 设计方法发展历程2.2.2 单纯形法2.2.3 遗传算法2.3 渐变折射率薄膜模型的建立2.4 光学薄膜材料的选择2.5 膜系结构的优化2.5.1 评价函数的建立2.5.2 程序运算2.6 普通载玻片折射率的确定2.6.1 透过率曲线反演2.6.2 反射率曲线反演2.7 优化结构的光谱特性分析2.8 本章小结第三章 实验、检测设备以及斜角沉积系统3.1 清洗设备3.2 实验材料和试剂3.3 检测设备3.3.1 扫描电镜3.3.2 X-射线衍射仪3.3.3 椭圆偏振仪3.3.4 原子力显微镜3.3.5 分光光度计3.4 镀膜设备3.4.1 制备方法的选择3.4.2 设备组成3.4.3 相关设备工作原理3.5 斜角沉积系统第四章 单层低折射率薄膜的制备和表征4.1 实验工艺流程4.1.1 基片清洗4.1.2 工艺参数初探4.1.3 镀膜操作流程4.2 实验结果分析4.2.1 SEM分析4.2.2 XRD、EDS分析4.2.3 AFM分析4.2.4 薄膜折射率分析4.2.6 光谱特性分析4.3 本章小结第五章 四层减反射薄膜的制备和表征5.1 实验制备5.1.1 工艺参数5.1.2 制备流程5.2 实验结果分析5.2.1 SEM形貌分析5.2.2 光谱特性分析5.2.3 减反射机理初探5.3 本章小结第六章 总结与展望6.1 结论6.1.1 理论设计6.1.2 实验制备6.2 展望硕士期间发表的论文参考文献致谢
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标签:斜角沉积论文; 减反射薄膜论文; 优化设计论文; 混合遗传算法论文;