介质阻挡放电等离子体在材料表面改性中的应用

介质阻挡放电等离子体在材料表面改性中的应用

论文摘要

等离子体表面改性是适用于多种材料的一种表面改性技术,由于其效果显著和经济可靠的原因得到了生物工程、工业、医学等多个领域的关注。这种技术的独特优势就是材料表面的性质和生物特性被有选择性地改变,然而材料本身内部的性质不变。本文回顾了多种常见的等离子体技术和实验方法,如等离子体射流、等离子体沉积、等离子体聚合、等离子体溅射等。并且通过两种介质阻挡放电等离子体装置研究等离子体对材料表面的影响。一种是利用大气压等离子体射流,对聚四氟乙烯基底表面的疏水性进行改变。另一种是利用真空环境下平行平板介质阻挡放电装置对聚四氟乙烯薄片沉积类二氧化硅薄膜,从而改变其表面性质。在文章最后,还探究了大气压等离子体射流装置沉积类二氧化硅薄膜的可行性。

论文目录

  • 摘要
  • ABSTRACT
  • 第一章 绪论
  • 1.1 引言
  • 1.2 等离子体的概念及发生装置
  • 1.2.1 等离子体的基本概念
  • 1.2.2 低温等离子体的产生方式
  • 1.3 材料表面结构与组分的分析方法
  • 1.3.1 扫描电子显微镜分析法
  • 1.3.2 X射线光电子能谱法
  • 1.3.3 振动光谱:红外吸收光谱和拉曼光谱
  • 1.4 低温等离子体表面改性的国内外发展现状
  • 1.5 论文研究内容
  • 1.6 研究的目的和意义
  • 1.6.1 表面研究的目的
  • 1.6.2 研究注意事项
  • 1.6.3 有机材料的表面改性的意义
  • 第二章 DBD冷等离子体射流在聚合物表面改性方面的研究
  • 2.1 聚丙烯材料及应用介绍
  • 2.2 低温等离子体表面改性技术概述
  • 2.3 大气压射流冷等离子体对聚丙烯表面改性实验
  • 2.3.1 实验原材料及设备
  • 2.3.2 实验过程与结果
  • 2.4 实验结果与机理分析
  • 2.4.1 等离子体光谱分析
  • 2.4.2 大气压射流等离子体表面改性机理分析
  • 2.5 本章小结
  • 2-like薄膜初步'>第三章 利用介质阻挡放电等离子体制备SiO2-like薄膜初步
  • 3.1 等离子体增强化学气相沉积方法概述
  • 3.1.1 PECVD的特征
  • 3.1.2 PECVD的应用概况
  • 2-like薄膜研究初步'>3.2 介质阻挡放电PECVD法制备SiO2-like薄膜研究初步
  • 2-like薄膜的实验研究'>3.2.1 平行平板电极PECVD法沉积SiO2-like薄膜的实验研究
  • 2-like薄膜可行性研究'>3.2.2 大气压射流冷等离子体PECVD沉积SiO2-like薄膜可行性研究
  • 3.3 本章小结
  • 总结
  • 致谢
  • 参考文献
  • 相关论文文献

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