论文摘要
随着磁盘面记录密度的不断提高,要求磁记录介质具有很高的矫顽力,而要在高矫顽力上记录信息,要求记录磁头材料必须具有高饱和磁感应强度。Fe-Co合金因具有高饱和磁化强度,而使其成为很有竞争优势的材料,但Fe-Co合金薄膜一般表现大的矫顽力,给应用带来很大困难。本文采用对靶磁控溅射的方法,在真空环境下制备了Fe-Co系列薄膜,并利用VSM、SPM和XRD等设备对材料的磁特性和微结构进行了测试、分析。讨论了不同的靶成分、热处理温度及薄膜厚度对薄膜微结构和磁特性的影响。取得的主要研究结果如下:(1)对于Fe50Co50(50nm)薄膜,样品的矫顽力随基底温度的升高呈现越来越低的趋势,在基底温度为500?C时,矫顽力的值最小为47Oe。表面形貌的研究表明,Fe50Co50(50nm)薄膜表面的粗糙度随着基底温度的升高逐渐增大,磁畴对比度随基底温度的升高而增强。XRD测试样品峰的强度随基底温度升高明显增强。(2)对沉积态Fe50Co50薄膜样品,当膜厚小于33nm时,随着膜厚的增加,样品的矫顽力逐渐降低;在厚度为33nm时出现了最小值为25Oe;当厚度大于33nm时,矫顽力随着薄膜厚度的增加逐渐增加;当薄膜厚度增加为170nm时,样品的矫顽力达到最大值106Oe。表面粗糙度随薄膜厚度的增加越来越大。XRD测试样品峰的强度随薄膜厚度增加明显增强。(3)对沉积态Fe70Co30系列薄膜的研究得到,随着膜厚的增加,样品的矫顽力逐渐升高,饱和磁化强度则有降低趋势。表面形貌的研究表明,当薄膜厚度增加时,表面粗糙度也在增加。XRD测试样品峰的强度随薄膜厚度增加明显增强。(4)对退火温度600?C的Fe70Co30薄膜样品,随着膜厚的增加,样品的矫顽力先增加后降低。表面粗糙度及磁畴强弱对比随厚度的增加越来越大。XRD测试样品峰的强度随薄膜厚度增加明显增强。
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