概率缩合法合成AB3型酞菁配合物及其谱学性质研究

论文摘要

采用概率法合成了7 种AB3型和A2B2型酞菁钴配合物（A 和B 表示酞菁分子中两种不同的异吲哚单元）: α-2,4-二叔丁基苯氧基酞菁钴（AB3） β-2,4-二叔丁基苯氧基酞菁钴（AB3） 1,4-二异丙氧基酞菁钴（AB3） 1,4-二异丁氧基酞菁钴（AB3） α-二-（2,4-二叔丁基苯氧基） 酞菁钴（A2B2） 1,4,15,18（or 1,4,8,11）-四取代乙氧基酞菁钴（A2B2） 1,4,15,18（or 1,4,8,11）-四取代辛氧基酞菁钴（A2B2） 其中的A2B2型配合物是在分离提纯AB3型配合物的过程中得到。进行了高效液相色谱分析、元素分析、红外光谱分析以及质谱分析等表征,重点研究了它们的UV/vis 光谱性质。在UV/Vis光谱研究中,发现取代基的类型、取代位置和数目与酞菁钴的λmax有定量的关系:每个α位上取代烷氧基对酞菁钴位移贡献为红移10nm 左右,芳氧基为7nm 左右;而β位上的芳氧基只有3nm 左右。另外,针对这两类酞菁在大部分溶剂中的电子吸收光谱不同于常见的酞菁吸收光谱,即在与单体吸收峰更近的位置,出现了一个新的吸收峰的现象。通过研究溶剂、取代基的位置和个数以及浓度对其吸收峰的位置和强度的影响,提出了该吸收峰可能是酞菁聚体吸收峰的观点。

论文目录

• 第一章 文献综述
• 1.1 酞菁化学概述
• 1.1.1 引言
• 1.1.2 酞菁的合成方法
• 1.1.3 酞菁的应用
• 1.2 不等同取代酞菁
• 1.2.1 引言
• 1.2.2 不等同取代酞菁的合成方法
• 1.2.2.1 概率缩合法
• 1.2.2.2 聚合物载体法
• 1.2.2.3 亚酞菁的扩环反应法
• 1.2.2.4 半酞菁法
• 1.2.2.5 交叉缩合法
• 1.2.2.6 其它方法
• 1.2.3 不等同取代酞菁的应用研究
• 1.2.3.1 在非线性光学（NLO）领域的应用
• 1.2.3.2 在光致电荷转移方面的应用
• 1.2.3.3 作为纳米器件的应用
• 3 型酞菁的研究现状'>1.2.4 AB₃型酞菁的研究现状
• 1.3 本论文的立题思路
• 第二章 实验部分
• 2.1 实验试剂
• 2.2 主要实验仪器
• 2.3 化合物制备
• 2.3.1 原料准备
• 2.3.2 酞菁前驱体的合成
• 3 型取代酞菁钴配合物的合成'>2.3.3 AB₃型取代酞菁钴配合物的合成
• 2B₂ 型取代酞菁钴配合物的合成'>2.3.4 A₂B₂型取代酞菁钴配合物的合成
• 2.3.5. 等同取代酞菁钴配合物的合成
• 2.4. 产物表征
• 2.5. 合成的讨论
• 第三章 产物表征及谱学性质研究
• 3.1. X-射线单晶结构分析
• 3.1.1. 3,6-二异丙氧基邻苯二甲腈的晶体结构
• 3.1.2. 4-（2,4-二叔丁基苯氧基）邻苯二甲腈的晶体结构
• 3.1.3.一种取代酞菁钴配合物晶体结构的初步测定
• 3.2. 高效液相色谱分析
• 3.3. 元素分析
• 3.4. 质谱分析
• 3.5. 红外光谱分析
• 3.6. 紫外可见光谱的研究
• 3.6.1 取代基的影响
• 3.6.2 溶剂的影响
• 3.6.3 聚集态的研究
• 总结与展望
• 参考文献
• 致谢
• 附录I 晶体结构数据
• 附录II 谱学性质表征谱图
• 个人简历、在学期间发表的论文