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刘闯:某硅晶片洁净厂房的湿度控制方案论文

本文主要研究内容

作者刘闯,武琳(2019)在《某硅晶片洁净厂房的湿度控制方案》一文中研究指出:散湿量相对较大,房间露点温度要求相对较低且湿度要求相对较严格的洁净房间,可以采用MAU+FFU+DCC+RDU(转轮除湿机组)的洁净空调方式,部分新风进行转轮除湿处理,以满足个别洁净房间的湿度要求。

Abstract

san shi liang xiang dui jiao da ,fang jian lou dian wen du yao qiu xiang dui jiao di ju shi du yao qiu xiang dui jiao yan ge de jie jing fang jian ,ke yi cai yong MAU+FFU+DCC+RDU(zhuai lun chu shi ji zu )de jie jing kong diao fang shi ,bu fen xin feng jin hang zhuai lun chu shi chu li ,yi man zu ge bie jie jing fang jian de shi du yao qiu 。

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  • 论文详细介绍

    论文作者分别是来自洁净与空调技术的刘闯,武琳,发表于刊物洁净与空调技术2019年01期论文,是一篇关于湿度论文,散湿量论文,转轮除湿论文,洁净房间论文,洁净与空调技术2019年01期论文的文章。本文可供学术参考使用,各位学者可以免费参考阅读下载,文章观点不代表本站观点,资料来自洁净与空调技术2019年01期论文网站,若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权,请联系我们删除。

    本文来源: https://www.lw50.cn/article/05064bd465b078d0419c9d79.html