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激光高反射膜的研究

论文摘要

本论文将讨论中心波长808nm的激光高反射膜,主要叙述了膜系的设计、膜料的选择、镀制前后的辅助工艺以及优化镀制工艺参数等方面的内容。通过对以上内容的研究和分析,设计出λ/4膜系G/(HL)8H/A,此膜系能满足在中心波长808nm处反射率大于99.5%的要求。通过对膜料的选择、组合和镀制工艺等方面的研究,尽量减少光学损耗和提高薄膜的抗激光阈值,以满足激光反射膜的特殊要求。采用电子束离子辅助蒸发系统镀制的高反射膜,经过实际测试,该反射膜激光损伤阈值大于500MW/cm2,满足课题的使用要求,并给出了实验数据和综合评价结果。

论文目录

  • 摘要
  • ABSTRACT
  • 目录
  • 第一章 绪论
  • 第二章 薄膜光学理论
  • 2.1 薄膜光学的电磁理论基础
  • 2.2 光波在界面的反射、折射
  • 2.3 光学薄膜系统的特性计算
  • 第三章 膜系设计
  • 3.1 膜料的选择
  • 3.2 膜系计算
  • 第四章 镀制前后的辅助工艺
  • 4.1 膜层迅速恶化的主要原因
  • 4.2 主要辅助工艺
  • 第五章 镀制工艺
  • 5.1 镀膜机结构配置
  • 5.2 薄膜厚度的控制方法
  • 5.3 操作步骤及有关数据记录
  • 5.4 误差分析
  • 结论
  • 致谢
  • 参考文献
  • 相关论文文献

    本文来源: https://www.lw50.cn/article/413479383e62a5c16a71614b.html