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:我国成立研发中心攻关集成电路硅材料和高纯特种气体关键技术论文

本文主要研究内容

作者(2019)在《我国成立研发中心攻关集成电路硅材料和高纯特种气体关键技术》一文中研究指出:浙江大学硅材料国家重点实验室——黄河水电集成电路硅材料联合研发中心8月14日正式在青海省西宁市揭牌成立,这也是青海首个集成电路硅材料联合研发中心。国家电投黄河水电公司(以下简称"黄河公司")董事长谢小平介绍,近年来,中国高端集成电路制造骨干企业发展迅速,但所需的集成电路产业基础材料——电子级多晶硅和电子级特种气体仍然依赖进口,亟待进行相关产品的研发和生产,补短

Abstract

zhe jiang da xue gui cai liao guo jia chong dian shi yan shi ——huang he shui dian ji cheng dian lu gui cai liao lian ge yan fa zhong xin 8yue 14ri zheng shi zai qing hai sheng xi ning shi jie pai cheng li ,zhe ye shi qing hai shou ge ji cheng dian lu gui cai liao lian ge yan fa zhong xin 。guo jia dian tou huang he shui dian gong si (yi xia jian chen "huang he gong si ")dong shi chang xie xiao ping jie shao ,jin nian lai ,zhong guo gao duan ji cheng dian lu zhi zao gu gan qi ye fa zhan xun su ,dan suo xu de ji cheng dian lu chan ye ji chu cai liao ——dian zi ji duo jing gui he dian zi ji te chong qi ti reng ran yi lai jin kou ,ji dai jin hang xiang guan chan pin de yan fa he sheng chan ,bu duan

论文参考文献

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  • 论文详细介绍

    论文作者分别是来自低温与特气的,发表于刊物低温与特气2019年04期论文,是一篇关于,低温与特气2019年04期论文的文章。本文可供学术参考使用,各位学者可以免费参考阅读下载,文章观点不代表本站观点,资料来自低温与特气2019年04期论文网站,若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权,请联系我们删除。

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