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纳米金刚石薄膜次级电子发射特性研究

论文摘要

由于金刚石在力、热、光、电学等方面独特的性质，正引起人们广泛的关注。在金刚石膜的应用前景中最为重要的一个领域是，金刚石膜作为电子发射材料在高频、大功率和高温电子器件中的使用。而纳米金刚石薄膜的制备、表征和应用研究已经成为该领域的一个新热点。本文描述了用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)方法在硅基底上制备纳米金刚石薄膜的方法和过程，并对制备的薄膜进行了表面分析。在此基础上研制出了用来测定反射型二次电子发射系数的实验装置，得出了这几种薄膜在不同入射能量下的二次电子发射系数，取得了满意的结果(二次电子发射系数δ=15)，表明了纳米金刚石薄膜作为二次电子发射材料具有很好的应用前景。

论文目录

  • 摘要
  • Abstract
  • 第一章 绪论
  • 1.1 纳米金刚石薄膜SEE的研究价值
  • 1.2 研究现状
  • 1.3 论文的研究内容
  • 第二章 次级电子发射的基本理论
  • 2.1 固体能带模型
  • 2.2 负电子亲和势、逸出深度
  • 2.3 次级电子发射理论
  • 2.3.1 次级电子发射的物理过程
  • 2.3.2 定量计算
  • 2.3.3 影响次级发射系数的因素
  • 2.4 透射型次级发射系数的理论计算
  • 第三章 薄膜的制备与表面分析
  • 3.1 金刚石薄膜的结构和优异特性
  • 3.2 微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）装置
  • 3.3 纳米金刚石薄膜制备过程
  • 3.4 薄膜分析方法
  • 3.4.1 X射线衍射方法（XRD）
  • 3.4.2 扫描电子显微镜（SEM）
  • 3.4.3 原子力显微镜（AFM）
  • 3.4.4 Raman光谱
  • 3.5 薄膜分析结果
  • 第四章 次级电子发射特性实验
  • 4.1 次级电子发射的实验方法
  • 4.2 实验装置与测定原理
  • 4.3 实验步骤
  • 4.4 实验结果
  • 4.5 实验讨论与结论
  • 致谢
  • 参考文献

    • 相关论文文献

    本文来源: https://www.lw50.cn/article/8689956ba9601b208b5fced7.html