作者张家祥,王威,王彦强,焦宇,周海龙,张芳,徐闪闪,陈召,覃一锋,张文余,黄东升,陈思（2019）在《高PS材料制备及工艺研究》一文中研究指出：本文对高膜厚PS材料进行了研究,通过工艺优化,成功在G5线实现了60～120μm的高PS。通过前烘工艺和固化工艺优化调整,得到了无气泡、膜面良好的高PS材料。本文还对曝光量对PS影响进行了研究,发现曝光量低于50mJ时,PS材料无法有效成型;当曝光量达到150mJ时,得到形貌良好,达到设计值的PS。最后还对不同基底高PS材料进行了研究,发现未进行增粘处理时,SiN基底粘附性良好,Mo基底还需继续优化处理。
ben wen dui gao mo hou PScai liao jin hang le yan jiu ,tong guo gong yi you hua ,cheng gong zai G5xian shi xian le 60～120μmde gao PS。tong guo qian hong gong yi he gu hua gong yi you hua diao zheng ,de dao le mo qi pao 、mo mian liang hao de gao PScai liao 。ben wen hai dui bao guang liang dui PSying xiang jin hang le yan jiu ,fa xian bao guang liang di yu 50mJshi ,PScai liao mo fa you xiao cheng xing ;dang bao guang liang da dao 150mJshi ,de dao xing mao liang hao ,da dao she ji zhi de PS。zui hou hai dui bu tong ji de gao PScai liao jin hang le yan jiu ,fa xian wei jin hang zeng nian chu li shi ,SiNji de nian fu xing liang hao ,Moji de hai xu ji xu you hua chu li 。
论文作者分别是来自液晶与显示的张家祥,王威,王彦强,焦宇,周海龙,张芳,徐闪闪,陈召,覃一锋,张文余,黄东升,陈思，发表于刊物液晶与显示2019年03期论文，是一篇关于液晶透镜论文,材料论文,高膜厚论文,液晶与显示2019年03期论文的文章。本文可供学术参考使用，各位学者可以免费参考阅读下载，文章观点不代表本站观点，资料来自液晶与显示2019年03期论文网站，若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权，请联系我们删除。
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