应用软刻技术构造胶体晶体有序微结构

论文摘要

本论文以软刻技术为基础,发展了一种图案化胶体晶的新方法——揭起软光刻技术,利用此方法可以选择性地对胶体晶进行Layer-by-layer 地揭起并图案化,当结合PDMS 模板易发生形变及表面微结构易坍塌的特性,我们还可以构造出不同于原来PDMS 模板形貌的亚微米级的胶体晶微结构。同时揭起软光刻过程中被转移到PDMS 模板表面的二维胶体晶可以做为微接触印刷的“墨水”进行转移,因此我们又发展了一种改进的微接触印刷技术:使用聚乙烯醇膜作为“胶水”,为“墨水”胶体微球与基底表面之间提供一种有效的相互作用,实现了胶体晶向任意基底甚至是曲面基底的转移,同时在微接触印刷过程中通过溶胀或拉伸PDMS 模板调整和改变二维胶体晶的球间距和晶格结构。

论文目录

第一章文献综述

第1节表面图案化技术

1.1.1 光刻技术

1.1.2 软光刻技术（soft lithography）

1.1.2.1 软光刻技术简介

1.1.2.2 软光刻技术的拓展

第2节胶体晶体及其图案化方法

1.2.1 胶体晶体简介

1.2.2 物理模板陷域法

1.2.3 化学模板陷域法

第3节本课题选题的意义和思路

第二章以揭起软光刻技术进行胶体晶体的图案化

第1节引言

第2节实验部分

2.2.1 实验材料

2.2.2 实验方法

2.2.3 表征仪器

第3节结果与讨论

2.3.1 以揭起软光刻技术进行胶体晶体的图案化

2.3.2 以改进的揭起软光刻技术进行胶体晶体的精确图案化

2.3.3 二维胶体晶体在PDMS 软基底上的图案化

第4节本章小结

第三章以胶体晶体为墨水进行微接触印刷

第1节引言

第2节实验部分

3.2.1 实验材料

3.2.2 实验方法

3.2.3 表征仪器

第3节结果与讨论

3.3.1 以微接触印刷技术实现胶体晶体在任意基底上的图案化

3.3.2 在微接触印刷过程中构造二维非紧密堆积的胶体晶体

第4节本章小结

参考文献

导师及作者简介

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