作者王爽,白杉,徐平,王树英,郭雅尘,左文家,张腾月,周渊名,梁雪松,洪梅（2019）在《辉光放电质谱法在高纯材料分析中的应用》一文中研究指出：高纯材料是现代高新技术发展的基础,在电子、光学和光电子等尖端科学领域发挥着重要作用。采用固体样品直接分析的辉光放电质谱法(GDMS),在高纯金属、高纯半导体材料的痕量和超痕量杂质分析中有着非常广泛的应用。综述了GDMS法对高纯金属、高纯半导体材料进行的元素分析,并对分析过程中工作参数、溅射时间、干扰峰等因素的影响进行了阐述。同时,也详述了应用GDMS法对高纯金属钛、镉,高纯半导体硅,分别进行的痕量杂质元素分析,结果显示放电稳定性良好,典型元素含量的相对标准偏差均在较为理想范围内。GDMS应用前景广泛,未来,GDMS将在除固体样品之外的其他样品类型的分析领域中发挥重要作用。
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论文作者分别是来自中国无机分析化学的王爽,白杉,徐平,王树英,郭雅尘,左文家,张腾月,周渊名,梁雪松,洪梅，发表于刊物中国无机分析化学2019年02期论文，是一篇关于辉光放电质谱法论文,高纯金属论文,高纯半导体论文,应用论文,中国无机分析化学2019年02期论文的文章。本文可供学术参考使用，各位学者可以免费参考阅读下载，文章观点不代表本站观点，资料来自中国无机分析化学2019年02期论文网站，若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权，请联系我们删除。
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