光罩论文

45纳米掩膜版缺陷的可成像性研究
论文摘要随着沉浸式步进扫描光刻机台ASML1900Gi的引入,国内晶圆制造将逐步进入45纳米世代。由于关键尺寸的不断缩小,很多先进的分辨率增强技术,如光学临近修正(OPC)、相...