硅酸盐学报2019年07期论文

本文主要研究内容作者王崇杰,祝柏林,赵绚,马俊敏,吴隽,甘章华,刘静（2019）在《Ag层沉积速率对SnO2/Ag/SnO2三层膜透明导电性能的影响》一文中研究指出：以射频磁控溅射方法在两种沉积速率下（0.065和0.750nm/s）制备单层Ag膜,研究了沉积速率对Ag膜结构的影响。以同样的两种速率...