蝶形化论文

直接浅沟道隔离平坦化技术的研究及应用
论文摘要随着半导体技术的不断发展,器件尺寸越来越小,因而对于器件间的隔离性能的要求也越来越高。进入到0.35μm及以下工艺以后,LOCOS(LocalOxidationofSi...