表面充电效应论文

等离子体源离子注入介质靶鞘层特性的数值研究
论文摘要等离子体源离子注入（PSII）作为一种重要的材料表面加工改性技术,主要被应用于金属及半导体材料表面改性领域。由于特有的优势（例如成本低、操作简单、高效率、可以处理复杂形...