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氧化铈浆料中无机电解质的加入对ZF7玻璃抛光材料去除速率的显著促进作用
论文摘要抛光粒子的微结构控制合成及抛光浆料的调配是化学机械抛光(CMP)领域的研究热点,其技术突破直接促进到超大规模集成电路和许多高精度光学器械的发展。本论文采用不同类型的无机...