• 光刻胶光栅掩模槽形的控制研究

    光刻胶光栅掩模槽形的控制研究

    论文摘要本文系统地研究了Shipley光刻胶制作光栅掩模的曝光和显影过程,建立了掩模制作的曝光模型和显影模型。根据模型模拟了光栅掩模的最终槽形,与实验结果相比较证明了模型的正确...