尘埃微粒论文

侧墙TEOS-SiO2薄层的去除及重新淀积
论文摘要在集成电路制造领域,晶体管是电路中应用最主要的器件之一,而它的自对准源漏栅工艺是晶体管制造的关键。在小尺寸深亚微米技术中,轻掺杂源漏结构（LDD）是MOS管的重要组成部...