磁控溅射离子镀论文

磁控溅射离子镀TiN、TiAlN膜的制备及性能研究
论文摘要磁控溅射离子镀技术（MSIP）在薄膜沉积领域应用非常广泛,所制备的涂层具有质量好、薄膜-基体结合强度高、可设计性强等优点,改善了切削刀具、钻头等工具服役性能和寿命。Ti...
MoS2-Ti及CrTiAlN+MoS2-Ti复合涂层组织和性能的研究
论文摘要封闭场非平衡磁控溅射离子镀技术处理温度低、工件不易变形、工艺操作简单、可以控制涂层的成分和结构,另外该技术还综合了离子镀结合力强的优点,可以制备出结构适合、性能卓越的新...