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掩膜版雾状缺陷改善与光刻良率提升
论文摘要在半导体业大尺寸、细线宽、高精度、高效率、低成本的要求下,如何有效降低掩膜版的雾状缺陷产生的频率,以提高产品良率是半导体业界重大的挑战之一,特别是在光刻波长进入到193...