氮化铟论文
基于ECR-PEMOCVD技术在蓝宝石衬底上高C轴择优的InN薄膜的制备及表征
论文摘要氮化铟(InN)是InGaN合金的重要组成部分,InN使制造InGaAIN基的短波长半导体激光二极管成为可能,因此引起了广泛的关注。与其它III族氮化物氮化镓(GaN)...基于ECR-PEMOCVD技术的GaN和InN薄膜的生长及性能研究
论文摘要以氮化镓(GaN)为代表的Ⅲ族氮化物半导体材料,由于其在光电子和微电子器件上的应用前景,受到了人们极大的关注。2002年的研究表明,氮化铟(InN)的禁带宽度为0.7e...氮化铟一维纳/微米结构的可控制备和表征
论文摘要在Ⅲ族氮化物半导体中,InN具有优异的电子输运性质,在高频厘米和毫米波器件应用上具有独特的优势,这些特性引起人们对InN的极大兴趣。同时,近两年来的研究表明InN的带隙...