等离子体密度论文

高功率复合脉冲磁控溅射等离子体特性及TiN薄膜制备
论文摘要磁控溅射技术成膜的粒子能量高,所镀膜层密度高、针孔少、纯度高,广泛应用于金属和化合物薄膜沉积。但是,传统的直流磁控溅射技术沉积速率低,靶功率密度受靶热负荷的限制,当溅射...