二元掩模论文

光刻仿真中二维掩模近场的扩展傅立叶分析和严格耦合波分析
论文摘要现代光刻中为了提高系统的分辨率,采用了各种分辨率增强技术:移相掩模技术、离轴照明、光学临近效应校正等。这些技术必然带来数值孔径的提高、光刻关键尺寸的减小、掩模厚度的增加...