制程条件论文

蚀刻反应腔部件对制程条件影响及控制研究
论文摘要蚀刻在半导体工艺中主要负责图形转换的过程,线宽的变窄对工艺的稳定性提出了相当高的要求。90nm以下的产品,对各方面要求都提高了,原先可以忽略的小的缺陷现在都是会影响良率...