![磁控溅射镀制Al2O3薄膜及其应用]()
论文摘要Al2O3薄膜因其光学性能优良、机械强度高、透明性与绝缘性好、耐磨损、抗腐蚀、有较高的抗激光损伤阈值及化学性能稳定等特点,近年来倍受国内外关注,已经广泛地应用于光学、机...
![氟化类金刚石薄膜血液相容性的研究]()
论文摘要用316L不锈钢（SU316L）作基片,以高纯石墨作靶、CHF3和Ar作源气体,采用反应磁控溅射法在不同射频功率、流量比R（CHF3/Ar）下制备了氟化类金刚石（F-D...
![电阻式存储器特性测试仪及应用研究]()
论文摘要随着电子产业发展，人们对手持式便携终端的需求量是越来越大。手机、移动硬盘、MP3、笔记本电脑等高科技产品已经日益成为人们生活中不可或缺的工具。存储器作为这些产品的重要部...
![红外窗口用二氧化硅/氧化钇增透膜的优化制备与评价]()
论文摘要蓝宝石晶体具有优良的物理性能和化学性能,是目前中红外窗口较理想的材料。但是随着红外窗口向高马赫或更高马赫趋势的发展,在高温条件下,蓝宝石的强度急剧下降,红外透过率也满足...
![TaN微波功率薄膜电阻器的制备及性能研究]()
论文摘要TaN薄膜具有宽电阻率、低电阻温度系数以及自钝化特性而被广泛应用于微波功率电阻器中。本文采用反应磁控溅射法制备TaN薄膜,研究了溅射时间,溅射气压,溅射氮分压,热处理温...
![反应磁控溅射法制备Ti（C，N）镀层的组织结构与性能研究]()
论文摘要本文采用反应磁控溅射技术并选择石墨靶材作为镀层生长中所需的碳源,制备了一系列碳含量不同的Ti（C,N）镀层。使用X射线衍射、扫描电子显微镜及透射电子显微镜、X射线光电子...
![反应磁控溅射法制备VO2薄膜及其相变特性研究]()
论文摘要二氧化钒（VO2）是一种典型的热致相变化合物,相变温度68℃,伴随着相变,其电阻率、磁化率、光的透过率等诸多光电特性均会发生可逆突变,这些卓越的性能使得VO2薄膜在智能...
![磁控溅射制备氮化钛及其复合薄膜材料的耐腐蚀性研究]()
论文摘要本文阐述了用反应磁控溅射方法制备氮化钛及其复合薄膜（镀层）的发展历史;综述了氮化钛薄膜的结构、性能和应用;分析了（Ti,Al）N复合薄膜相对于氮化钛薄膜的优势,并指出了...
![Gd掺杂CeO2电解质薄膜的生长与电学特性研究]()
论文摘要掺杂CeO2基电解质材料替代传统的YSZ电解质材料是发展中温固体氧化物燃料电池的趋势,是目前SOFC领域的研究热点之一。掺杂浓度为10%～20%左右的Gd2O3掺杂的C...
![反应磁控溅射制备掺钨氧化钒薄膜的研究]()
论文摘要VO2薄膜是一种具有典型热致相变特性的功能材料,在68℃附近会发生低温半导体态到高温金属态的可逆转变,在转变过程中电阻率和红外透过率等物理性质会发生急剧变化。但VO2很...
![氮化钛薄膜的制备及其光、电性能的研究]()
论文摘要氮化钛（TiNx）是过渡金属氮化物,它由离子键、金属键和共价键混合而成,它独特的电子结构所表现出高硬度、高熔点、化学稳定性高以及优良导电性能和红外波段较高光学反射率使它...
![反应磁控溅射制备AlN薄膜及其发光性能研究]()
论文摘要氮化铝（AlN）薄膜优异的物理化学性能使得它在电子、光电子、声表面波等领域有着广阔的应用前景,因而受到了人们的广泛关注。本论文的目标是应用反应磁控溅射法制备AlN薄膜,...
![反应磁控溅射法制备TiN薄膜的研究]()
论文摘要TiN是第一个产业化并广泛应用的硬质薄膜材料,有关它的制备研究一直十分活跃,已成为国内外硬质涂层研究的热点。由于其具有较高的硬度和耐磨性能、独特的金黄色、低电阻率以及阻...
![反应磁控溅射法制备的氟化类金刚石薄膜的结构和性能研究]()
论文题目:反应磁控溅射法制备的氟化类金刚石薄膜的结构和性能研究论文类型:博士论文论文专业:凝聚态物理作者:江美福导师:宁兆元关键词:氟化类金刚石,反应磁控溅射,拉曼光谱,硬度,...
![太阳电池减反射薄膜的研究]()
论文题目:太阳电池减反射薄膜的研究论文类型:博士论文论文专业:流体机械及工程作者:王贺权导师:巴德纯,沈辉,闻立时关键词:太阳电池,反应磁控溅射,减反射薄膜文献来源:东北大学发...
