![基于VO_X薄膜的电致阻变特性的研究]()
论文摘要为了满足飞速发展的信息科技对存储器低功耗,高密度等要求,具有非易失性的电阻式随机存储器（ResistiveRAM,简称RRAM）以其结构简单、操作电压低、读写速度快、尺...
![基于等离子体发射谱的反应溅射镀膜方法的实验研究]()
论文摘要随着现代工业的发展,各种功能薄膜越来越多地应用到各个领域；磁控溅射镀膜技术不仅具有沉积温度低、薄膜附着性好,均匀性好、密度高、杂质少,膜的厚度可以控制,操作简单等优点,...
![直流反应溅射制备氧化铝薄膜及其迟滞现象研究]()
论文摘要由于迟滞现象的存在以及Al2O3薄膜自身特性的影响使得直流反应溅射制备Al2O3薄膜的工艺过程不稳定并且难以控制。迟滞曲线对于研究靶的溅射状态和镀膜工作点的选取具有重要...
![TiN_x缓冲层的制备及对一维SiC纳米材料场发射的影响]()
论文摘要TiN因具有高强度、高硬度、高熔点、高化学稳定性、耐磨损、良好的导热性等一系列优点以及在增强材料的光致发光、改变半导体的带宽等方面的应用而成为目前广泛研究的材料之一。一...
![高k电介质薄膜制备研究与集成薄膜电容探讨]()
论文摘要随着无线通信的飞速发展,电子器件越来越朝着微型化、薄膜化、集成化的方向发展,作为电路基本元件的电容也因此受到科技界的广泛关注。本文主要对薄膜电容进行研究,研究工作从两个...
![程奕天：低温反应溅射Al+α-Al2O3复合靶沉积α-Al2O3薄膜论文]()
本文主要研究内容作者程奕天,邱万奇,周克崧,刘仲武,焦东玲,钟喜春,张辉（2019）在《低温反应溅射Al+α-Al2O3复合靶沉积α-Al2O3薄膜》一文中研究指出：低温沉积α...
