高功率脉冲磁控溅射论文

论文摘要高功率脉冲磁控溅射(HPPMS)技术由于具有溅射粒子离化率高,等离子体密度高,功率密度可到达几个kW/cm2,离子电流可到达几个A/cm2,并具有溅射粒子能量大等特点,...

论文摘要由于高的金属离化率,高功率脉冲磁控溅射（HPPMS）技术制备的薄膜结构致密,性能优异。对于大型磁控靶,HPPMS峰值功率可以提高到兆瓦级,脉冲电流可以达到几千安,这对于...

本文主要研究内容作者韩明月,李刘合,李花,艾猛,罗阳（2019）在《高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)等离子体放电时空特性研究进展》一文中研究指出：高功率脉冲磁控溅射(HiPI...