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    CaCu3Ti4O12型晶体结构氧化物陶瓷材料的高介电物性研究

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    高k-ZrO2基薄膜生长行为及其稳定性的研究

    论文摘要利用高k介电薄膜材料替代传统的SiO2栅介质层是满足发展亚0.1μm以下尺寸的超大规模集成电路的要求,是目前微电子领域的研究热点之一。ZrO2薄膜因其具有合适的介电常数...