• 光刻工艺层间套准精度技术的研究和改进

    光刻工艺层间套准精度技术的研究和改进

    论文摘要随着集成电路制造业的迅猛发展,线宽尺寸不断减小,对光刻工艺以及光刻系统相关的精度要求也越来越高。其中,光刻对准技术作为光刻的三大核心技术之一,随着光刻分辨力的提高,套准...