光刻论文

论文摘要光镊（opticaltweezers）在问世之初被看作是微小宏观粒子的操控手段,1986年,以Ashkin为首的美国Bell实验室首先实现了强聚焦激光束对微米尺寸的玻璃...

论文摘要在表面安装技术（SMT）、整机小形化、高频化的不断发展的动力推动下,具有低等效串联电阻（ESR）、高Q值的片式射频/微波MLCC及片式射频/微波薄膜电容器,因其射频功率...

论文摘要自上世纪六十年代发光二极管（LED）商业化以来,LED照明引起了越来越多的关注。提高LED出光效率也成为当前国际上该领域的一个研究热点。本论文基于多孔结构提高LED的出...

论文摘要本文首先对脊型半导体激光器的发展和应用进行了综述,其次对脊型半导体激光器的发光原理、材料、结构进行了理论分析,进而对脊型半导体激光器进行了优化设计。在对光刻原理进行研究...

论文摘要本论文经过比较几种100微米以下亚波长金属孔阵列结构太赫兹样品的制作方法,确定了利用光刻和湿法腐蚀工艺制作太赫兹波段金属周期性结构嵌套小孔样品的方案。本论文讨论了光刻和...

论文摘要随着集成电路制造业的迅猛发展,线宽尺寸不断减小,对光刻工艺以及光刻系统相关的精度要求也越来越高。其中,光刻对准技术作为光刻的三大核心技术之一,随着光刻分辨力的提高,套准...

论文摘要极紫外光刻(EUVL)是下一代光刻技术中最有前途的方法,它向人们提供了突破22nm节点的途径。但是,限制EUV技术发展的一个主要制约因素是大功率,高质量大功率的EUV光...

论文摘要自IC诞生以来，其速度和成本一直遵循着摩尔定律进化，速度越来越快，而芯片所占面积越来越小，进而成本越来越低。芯片所占面积主要由光刻的工艺能达到的线宽决定，在IC光刻工艺...

论文摘要近年来，基于微机电系统（Micro-electro-MechanicalSystems：MEMS）技术的非致冷红外气体探测器成为传感领域的研究热点。它在监测特定气体如可...

论文摘要液晶显示的广泛应用已经使其取代了阴极射线管（CRT）,成为如今显示和电视设备的最主要的显示技术,丰富了人们的日常生活,并为信息的交流和传输做出了巨大的贡献。由于薄膜晶体...

论文摘要随着纳米科学和生命科学的研究不断深入,在光学显微成像、光刻、光信息存储等诸多光学应用领域,由于存在光学衍射效应,导致聚焦焦斑和远场成像出现极限分辨率问题。要想获得更高分...

论文摘要研究表明,微小凹坑阵列结构对于改善摩擦副表面的润滑状况,减少摩擦磨损起着非常重要的作用。因此,微小凹坑阵列结构的加工已成为研究热点。在所有微坑加工方法中,电解加工(El...

论文摘要垂直腔面发射激光器（VerticalCavitySurfaceEmittingLaser,VCSEL）近几年取得了很大的进展。与传统的边发射半导体激光器相比,它具有发散...

论文摘要随着IC制造业的迅速发展,光刻成像技术的不断提高,芯片的特征尺寸也不断的缩小,而关键尺寸的缩小则产生了对套刻精度更高的要求。套准精度(Overlay)是现代高精度步进扫...

论文摘要激光照排机采用电子计算机编辑排版系统,把书稿输入到计算机内,书稿内容经过计算机而转换成点阵信息。我们提出采用微机电系统（Microelectro-mechanicals...

论文摘要现代光刻中为了提高系统的分辨率,采用了各种分辨率增强技术:移相掩模技术、离轴照明、光学临近效应校正等。这些技术必然带来数值孔径的提高、光刻关键尺寸的减小、掩模厚度的增加...

论文摘要本文通过沉淀聚合合成了聚（甲基丙烯酸-co-甲基丙烯酸甲酯-co-甲基丙烯酸叔丁酯-co-甲基丙烯酸异冰片酯）四元共聚物,合成了光产酸剂二苯碘三氟甲基磺酸盐,在净化室中...

论文摘要光子筛是一种新型聚焦成像衍射光学元件,利用它可以对X光聚焦和成像,这是一般棱镜和玻璃材料的成像光学元件无法实现的。对光子筛的聚焦成像原理作了介绍,并应用平面波角谱方法对...

论文摘要光刻技术及其在产业中的开发应用一直是业界最关注的焦点之一。极紫外光刻成为了下一代光刻技术最有力的竞争者。然而,要实现商业化,必须先克服技术上难关。光刻是大规模集成电路的...

论文摘要衍射光栅是一种重要的光学元件,在光谱测量、光计算、光信息处理等诸多领域有着广泛的应用。随着光栅应用的不断深入,对其性能要求也逐渐提高,而增大光栅的面积和衍射效率是提高光...